ST0503 Cible de pulvérisation cathodique platine-ruthénium (Pt/Ru)

Cible de pulvérisation de platine ruthénium (Pt/Ru) Description

La cible de pulvérisation de platine ruthénium (Pt/Ru) fabriquée par Stanford Advanced Materials est conçue pour offrir des performances élevées dans les technologies de dépôt modernes. Utilisant des procédés de fabrication de pointe, ce produit offre une excellente pureté et des formes personnalisables qui répondent aux exigences des applications industrielles de pointe. Ses propriétés supérieures garantissent des performances de pulvérisation fiables et un dépôt de film uniforme, ce qui en fait un choix idéal pour la recherche, le développement et la production dans les industries de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation platine-ruthénium (Pt/Ru)

- Microélectronique : Indispensable pour déposer des couches minces de haute qualité dans les circuits intégrés et les capteurs.
- Écrans plats : Fournit des revêtements uniformes essentiels pour les technologies d'affichage avancées.
- Cellules solaires : Utilisé dans la formation d'électrodes pour les cellules solaires efficaces à couche mince.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales en science des matériaux et en nanotechnologie.

Emballage de cibles de pulvérisation de platine ruthénium (Pt/Ru)

Notre cible de pulvérisation de platine ruthénium (Pt/Ru) est manipulée et emballée avec soin afin de préserver sa qualité exceptionnelle. Les unités individuelles sont scellées sous vide et emballées dans des conteneurs sur mesure conçus pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant ainsi un stockage et un transport sûrs.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les principaux avantages de l'utilisation d'une cible de pulvérisation Pt/Ru ?
R : La cible de pulvérisation Pt/Ru offre une grande pureté et des performances exceptionnelles, permettant une adhérence supérieure du film, un dépôt uniforme et une conductivité électrique améliorée dans diverses applications.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible de pulvérisation Pt/Ru est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre à des besoins spécifiques de conception et d'application.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment la cible de pulvérisation Pt/Ru ?
R : Elle est largement utilisée en microélectronique, dans les écrans plats, les cellules solaires et dans diverses applications de recherche et de développement nécessitant un dépôt précis de couches minces.

Q : Comment le type de liaison affecte-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : L'utilisation de l'indium et de l'élastomère garantit une excellente stabilité thermique et mécanique, ce qui améliore les performances de la cible pendant le processus de pulvérisation.

Q : Quelles sont les normes de qualité appliquées à la production de cette cible de pulvérisation ?
R : Le produit est fabriqué selon des mesures strictes de contrôle de la qualité, garantissant une pureté de ≥99% et le respect des normes industrielles pour les cibles de pulvérisation de haute performance.