ST0500 Cible de pulvérisation Osmium Rubidium (Os/Ru)

Description de la cible de pulvérisation d'osmium rubidium (Os/Ru)

La cible de pulvérisation d'osmium rubidium (Os/Ru) est un matériau de haute performance conçu pour des applications industrielles avancées. Fabriquée avec précision pour atteindre une pureté de ≥99%, cette cible est idéale pour le dépôt de couches minces dans les processus de pointe en matière d'électronique et de revêtement. Elle est disponible en forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques. Grâce à ses propriétés robustes et à sa conception polyvalente, elle permet d'obtenir des performances fiables et constantes dans les processus de pulvérisation exigeants.

Applications de la cible de pulvérisation Osmium Rubidium (Os/Ru)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de films de haute qualité dans les domaines de la microélectronique, des écrans et des cellules solaires.
- Revêtements de surface : Utilisé pour déposer des revêtements protecteurs et décoratifs dans diverses applications industrielles.
- Recherche et développement : Soutient la R&D innovante dans le domaine des matériaux avancés et des dispositifs à semi-conducteurs.
- Fabrication spécialisée : Convient au développement de structures multicouches complexes dans des environnements de haute technologie.

Emballage de cibles de pulvérisation d'osmium rubidium (Os/Ru)

Notre cible de pulvérisation d'osmium rubidium (Os/Ru) est soigneusement emballée pour garantir son intégrité pendant le stockage et le transport. L'emballage standard comprend des matériaux de protection pour éviter la contamination et les dommages. Pour les commandes en vrac ou les solutions d'emballage personnalisées, veuillez contacter notre service commercial.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour déposer des couches minces sur des substrats dans diverses applications industrielles.

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation d'une cible Osmium Rubidium (Os/Ru) ?
R : La grande pureté (≥99%) et les formes personnalisables en font la cible idéale pour les applications de dépôt et de revêtement de couches minces cohérentes et performantes.

Q : La cible peut-elle être personnalisée pour répondre à des besoins spécifiques ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure selon les spécifications du client.

Q : Comment le processus de pulvérisation fonctionne-t-il avec ces cibles ?
R : Pendant la pulvérisation, des ions à haute énergie bombardent le matériau cible, éjectant des atomes qui se déposent ensuite sur un substrat pour former un film mince.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent fréquemment des cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation sont largement utilisées dans les secteurs des semi-conducteurs, de l'électronique, de l'affichage, de l'optique et du revêtement.