ST0492 Cible de pulvérisation cathodique Cobalt Niobium Zirconium (Co/Nb/Zr)

Cible de pulvérisation Cobalt Niobium Zirconium (Co/Nb/Zr) Description

La cible de pulvérisation Cobalt Niobium Zirconium (Co/Nb/Zr) est conçue pour le dépôt de couches minces et la fabrication microélectronique. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible est disponible sous forme de disques ou de configurations sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques. Sa formulation unique de cobalt, de niobium et de zirconium garantit d'excellentes performances dans les processus de pulvérisation, contribuant à un dépôt de film uniforme et à des revêtements de haute qualité dans les applications de semi-conducteurs et d'optique. Conçue pour la précision et la fiabilité, la cible répond aux exigences rigoureuses de la fabrication industrielle moderne.

Applications des cibles de pulvérisation Cobalt Niobium Zirconium (Co/Nb/Zr)

- Dispositifs semi-conducteurs : Idéale pour la fabrication de circuits intégrés et de transistors à couche mince.
- Revêtements optiques : Utilisées pour déposer des revêtements réfléchissants et antireflets.
- Microélectronique : Convient aux processus de microfabrication avancés dans les industries électroniques.
- Recherche et développement : Employé dans le cadre de la recherche et du développement nécessitant des cibles de pulvérisation de haute pureté pour les recherches en science des matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation Cobalt Niobium Zirconium (Co/Nb/Zr)

Notre cible de pulvérisation Cobalt Niobium Zirconium est emballée avec le plus grand soin pour garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport.
- Des options d'emballage personnalisées sont disponibles en fonction des besoins du client.
- Les emballages d'expédition standard sont conçus pour maintenir l'état impeccable de la cible depuis l'expédition jusqu'à l'installation.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des films minces sur des substrats dans des industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'optique et la microélectronique.

Q : En quoi la composition de Co/Nb/Zr est-elle utile aux applications de pulvérisation ?
R : Le mélange unique de cobalt, de niobium et de zirconium offre une excellente uniformité de film, une grande pureté et des performances de pulvérisation constantes, ce qui le rend adapté aux applications de haute technologie et de précision.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou de pièces sur mesure pour répondre à des exigences de fabrication spécifiques.

Q : Quelles sont les normes de qualité auxquelles répond la cible de pulvérisation ?
R : La cible est fabriquée avec une pureté de ≥99% et adhère à des protocoles de contrôle de qualité rigoureux pour garantir des performances fiables dans les processus de dépôt avancés.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée pour conserver sa qualité ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre et sec, et elle doit être manipulée en utilisant des mesures de protection appropriées pour éviter la contamination et les dommages physiques.