ST0477 Cible de pulvérisation d'oxyde de zinc avec manganèse (ZnO 0,3 % en poids de Mn)

Cible de pulvérisation d'oxyde de zinc avec manganèse (ZnO 0,3 % en poids de Mn) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de zinc avec manganèse (ZnO 0,3 % en poids de Mn ) est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Avec une composition maintenue à un niveau de pureté élevé (≥99%), la cible assure une excellente uniformité, adhésion et durabilité du film dans divers processus. Ses formes personnalisables, y compris des disques ou des conceptions sur mesure, permettent une intégration optimale dans diverses installations de fabrication utilisées pour la fabrication de semi-conducteurs, d'écrans plats et de dispositifs photovoltaïques.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de zinc avec manganèse (ZnO 0,3 % en poids de Mn)

- Écrans plats : Idéale pour déposer des couches d'oxyde uniformes essentielles pour les technologies d'affichage.
- Cellules photovoltaïques : Améliore la qualité des films dans la fabrication des cellules solaires pour une meilleure efficacité.
- Microélectronique : Convient à la formation de couches minces précises dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Utilisés pour les revêtements protecteurs et fonctionnels dans les appareils optiques.
- Cartes de circuits imprimés : Fournit des revêtements par pulvérisation de haute qualité qui améliorent les performances électriques et la durabilité.

Conditionnement des cibles de pulvérisation d'oxyde de zinc avec manganèse (ZnO 0,3 % en poids de Mn)

Nos cibles de pulvérisation sont emballées avec soin pour garantir le plus haut niveau de qualité du produit à la livraison. Les options comprennent l'emballage sous vide et des solutions personnalisées pour protéger la cible pendant le stockage et le transport, afin qu'elle reste en parfait état jusqu'à ce qu'elle soit utilisée dans votre processus de fabrication.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est composée d'oxyde de zinc avec 0,3 % en poids de manganèse (ZnO/Mn) et sa pureté est maintenue à ≥99 %.

Q : Sous quelles formes la cible de pulvérisation est-elle disponible ?
R : La cible est disponible sous forme de disque standard et peut également être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les applications courantes de cette cible ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication d'écrans plats, de cellules photovoltaïques, de produits microélectroniques, de revêtements optiques et de cartes de circuits imprimés.

Q : Comment la grande pureté de la cible affecte-t-elle ses performances ?
R : La pureté ≥99 % garantit un dépôt de film constant, une adhérence supérieure et une uniformité dans les applications de couches minces, ce qui est essentiel pour les dispositifs à haute performance.

Q : L'emballage de la cible peut-il être personnalisé ?
R : Oui, en plus de l'emballage standard sous vide, des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques de stockage et de transport de votre application.