ST0471 Cible de pulvérisation cathodique en niobium-titanate de strontium

Description de la cible de pulvérisation de titanate de strontium et de niobium

La cible de pulvérisation du titanate de strontium et de niobium est un matériau de haute performance produit avec un contrôle précis de sa composition afin de garantir des propriétés optimales pour les applications de pulvérisation. Conçue pour le dépôt de couches minces, cette cible offre une stabilité et une pureté exceptionnelles (≥99%), ce qui la rend idéale pour la fabrication de composants et de dispositifs électroniques. Ses formes personnalisables et son processus de fabrication de haute qualité la rendent adaptée à une gamme d'applications industrielles avancées où la cohérence et la fiabilité sont primordiales.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de strontium et de niobium

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de couches électroniques dans les semi-conducteurs et les technologies d'affichage.
- Fabrication électronique : Utilisée dans la production de composants de haute précision pour les ordinateurs, les capteurs et les appareils de communication.
- Industrie des semi-conducteurs : Fournit une excellente qualité de matériau pour les circuits intégrés et les applications microélectroniques.
- Revêtements optiques : Applicable à la création de dispositifs optiques avancés nécessitant des couches minces uniformes.

Emballage des cibles de pulvérisation du titanate de strontium et de niobium

Notre cible de pulvérisation de titanate de strontium et de niobium est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa pureté et son intégrité pendant le stockage et le transport.
Emballage sous vide : Généralement 5 kg par sac ou 25 kg par fût, avec des options disponibles en fonction des spécifications du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition de cette cible de pulvérisation ?
R : La cible est composée de SrNb(1-x)TixO3 avec une pureté de ≥99%.

Q : Qu'est-ce qui fait que cette cible de pulvérisation convient au dépôt de couches minces ?
R : Sa grande pureté et sa composition contrôlée garantissent une stabilité et des performances excellentes pendant les processus de pulvérisation de haute précision.

Q : Les formes de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement cette cible de pulvérisation de titanate de strontium et de niobium ?
R : Elle est largement utilisée dans les secteurs de l'électronique, des semi-conducteurs et des revêtements optiques, entre autres.

Q : Comment la qualité de la cible de pulvérisation est-elle maintenue pendant le transport ?
R : La cible est scellée sous vide dans un emballage spécialisé (5 kg par sac ou 25 kg par fût) afin de préserver son intégrité et sa qualité pendant le transport.