ST0459 Cible de pulvérisation de l'oxyde de cuivre néodyme (Nd2CuO4)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de néodyme et de cuivre (Nd2CuO4)

La cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre et de néodyme (Nd2CuO4) est développée à l'aide de techniques de fabrication avancées afin de garantir une qualité exceptionnelle du matériau. Elle est conçue pour offrir des performances uniformes dans les différents procédés de pulvérisation. Sa composition d'une grande pureté et ses formes personnalisables la rendent idéale pour les applications spécialisées dans l'électronique, le dépôt de couches minces et les environnements de recherche.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde de néodyme et de cuivre (Nd2CuO4)

- Électronique : Idéale pour les semi-conducteurs et les processus de dépôt de couches minces.
- Revêtements optiques : Appliquées à la fabrication de dispositifs et de revêtements optiques de haute précision.
- Recherche et développement : Convient aux études expérimentales et au développement de matériaux avancés.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de néodyme et de cuivre (Nd2CuO4)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre au néodyme est emballée avec le plus grand soin afin de préserver la qualité du produit. Un emballage standard est disponible, avec des options de personnalisation en fonction des besoins spécifiques du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition de cette cible de pulvérisation ?
R : La cible est composée de Nd2CuO4 avec une pureté de ≥99%.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques.

Q : Quel type de liaison est utilisé dans cette cible de pulvérisation ?
R : La cible utilise des liaisons à l'indium et à l'élastomère.

Q : Des informations sur le point de fusion sont-elles disponibles pour ce produit ?
R : Le point de fusion n'est actuellement pas disponible (N/A).

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est couramment utilisée dans l'électronique, les revêtements optiques et les applications de recherche impliquant le dépôt de couches minces.