ST0458 Cible de pulvérisation d'aluminate de néodyme (NdAlO3)

Description de la cible de pulvérisation d'aluminate de néodyme (NdAlO3)

La cible de pulvérisation en aluminate de néodyme (NdAlO3) est un matériau spécialisé fabriqué pour des applications de pulvérisation de précision. Fabriquée avec du NdAlO3 de grande pureté, cette cible offre d'excellentes performances dans les processus de dépôt de couches minces dans des environnements industriels exigeants. Elle est conçue pour offrir une grande stabilité thermique, un rendement de pulvérisation uniforme et une résistance à la dégradation dans des conditions extrêmes, ce qui la rend idéale pour les applications dans les domaines des semi-conducteurs, de l'électronique et des revêtements avancés.

Applications des cibles de pulvérisation de l'aluminate de néodyme (NdAlO3)

- Dépôt de couches minces : Parfait pour créer des couches minces uniformes et de haute qualité dans la fabrication de semi-conducteurs et d'appareils électroniques.
- Revêtements avancés : Utilisés pour appliquer des revêtements résistants à l'usure et protecteurs dans les applications industrielles.
- Recherche scientifique : Idéal pour les systèmes de pulvérisation en laboratoire nécessitant des cibles de haute pureté pour les processus expérimentaux.
- Aérospatiale et énergie : Convient aux applications à haute température où la stabilité et la fiabilité sont essentielles.

Emballage des cibles de pulvérisation de l'aluminate de néodyme (NdAlO3)

Nos cibles de pulvérisation en aluminate de néodyme sont emballées selon des contrôles de qualité stricts afin de préserver l'intégrité du produit tout au long du stockage et du transport.
- Emballage standard : Les disques sont solidement emballés dans des matériaux résistants à l'humidité.
- Emballage personnalisé : Des cibles sur mesure sont fournies selon les spécifications du client pour répondre aux exigences uniques du projet.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation NdAlO3 ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements avancés et les applications de pulvérisation de précision.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que l'électronique, la fabrication de semi-conducteurs, l'aérospatiale et l'énergie bénéficient de sa grande stabilité thermique et de ses performances uniformes.

Q : La cible peut-elle être personnalisée pour répondre aux besoins d'un projet spécifique ?
R : Oui, les tailles et les formes disponibles sont personnalisables pour répondre aux diverses exigences des différents processus de fabrication.

Q : Comment le point de fusion élevé de 2233 °C affecte-t-il les performances ?
R : Le point de fusion élevé garantit la stabilité de la cible à des températures extrêmes, ce qui permet d'obtenir des performances de pulvérisation constantes.

Q : Quels sont les contrôles de qualité mis en place pour l'emballage ?
R : Nos cibles sont emballées à l'abri de l'humidité et selon des méthodes d'emballage personnalisées afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport.