ST0454 Titanate de lithium (Li4Ti5O12) Cible de pulvérisation cathodique

Cible de pulvérisation du titanate de lithium (Li4Ti5O12) Description

La cible de pulvérisation de titanate de lithium (Li4Ti5O12) est conçue pour des applications industrielles de pulvérisation avancées, offrant une grande pureté et des performances constantes. Fabriquée avec précision, cette cible est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de conception spécifiques. Ses propriétés physiques robustes, dont un point de fusion élevé de 1 533 °C et une densité de 3,43 g/cm³, permettent de l'utiliser dans des environnements difficiles où la durabilité et la fiabilité sont essentielles. Ce produit est un choix privilégié pour la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et d'autres processus à haute température.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de lithium (Li4Ti5O12)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour les processus de pulvérisation dans la fabrication de puces et de circuits intégrés.
- Dépôt de couches minces : Utilisé pour la formation de couches conductrices et isolantes de haute qualité.
- Applications de revêtement : Applications industrielles pour les revêtements résistants à la corrosion et à l'usure.
- Aérospatiale et défense : Convient aux composants à haute température dans les applications aérospatiales exigeantes.
- Recherche et développement : Parfait pour les installations expérimentales dans les sciences des matériaux de pointe.

Cibles de pulvérisation du titanate de lithium (Li4Ti5O12)

Nos cibles de pulvérisation au titanate de lithium sont soigneusement emballées pour garantir l'intégrité et la stabilité du produit pendant le transport. Chaque unité est scellée de manière sûre dans un emballage spécialisé afin d'éviter toute contamination et tout dommage mécanique. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation de titanate de lithium (Li4Ti5O12) ?
R : Cette cible de pulvérisation est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, les applications aérospatiales et la recherche sur les matériaux avancés.

Q : En quoi le point de fusion élevé de 1 533 °C est-il utile aux applications de pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé garantit que la cible de pulvérisation peut supporter des températures de traitement extrêmes tout en conservant son intégrité structurelle et ses performances.

Q : Que signifie un niveau de pureté de ≥99% pour ce produit ?
R : Un niveau de pureté de ≥99% garantit un minimum d'impuretés, ce qui améliore les performances, la cohérence et la fiabilité de la cible dans les applications de haute technologie.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible de pulvérisation en titanate de lithium est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre aux exigences d'une application spécifique.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir la qualité de la cible lors de l'emballage et de l'expédition ?
R : Les cibles sont scellées sous vide et emballées dans des conteneurs spécialement conçus pour éviter toute contamination et tout dommage mécanique, ce qui garantit qu'elles arrivent en parfait état.