ST0449 Cible de pulvérisation cathodique d'oxyde de cuivre au lanthane et au strontium

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre au lanthane et au strontium

La cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre au strontium lanthanum est conçue pour les applications de couches minces avancées. D'une composition très pure (≥99%), elle garantit d'excellentes performances dans les processus de dépôt où l'uniformité et la fiabilité sont primordiales. Conçue à l'aide de techniques de fabrication de pointe, cette cible offre des performances optimales pour la fabrication de dispositifs dans les domaines de la microélectronique et des supraconducteurs à haute température.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de cuivre au lanthane et au strontium

- Dépôt de couches minces : Idéale pour créer des couches minces uniformes dans les dispositifs microélectroniques et les applications supraconductrices.
- Microélectronique : Utilisée dans la fabrication de circuits intégrés et de composants semi-conducteurs.
- Recherche et développement : Appliqué dans les installations expérimentales et les environnements de recherche de haute technologie qui explorent de nouveaux matériaux électroniques.
- Revêtements avancés : Utilisés pour former des revêtements protecteurs et fonctionnels dans des dispositifs à haute performance.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de cuivre au lanthane et au strontium

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre au strontium lanthanum est soigneusement emballée afin de préserver sa qualité tout au long du transport et du stockage.
L'emballage standard comprend des options de scellage sous vide disponibles dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Pour quelles applications la cible de pulvérisation d'oxyde de cuivre au lanthane et au strontium convient-elle le mieux ?
R : Elle est particulièrement adaptée au dépôt de couches minces, à la fabrication microélectronique, aux applications supraconductrices et à la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Que signifie le niveau de pureté de ≥99% ?
R : Une pureté de ≥99% garantit une grande cohérence et des performances optimales pendant les processus de pulvérisation, offrant un dépôt de film fiable et de haute qualité.

Q : La cible peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, outre les formes de disques standard, la cible peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de taille et de forme uniques, selon les spécifications du client.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique, les technologies supraconductrices et les secteurs de la recherche avancée peuvent grandement bénéficier de cette application.

Q : Comment la qualité est-elle maintenue pendant le transport ?
R : La cible est scellée sous vide et emballée de manière sécurisée afin de préserver son intégrité et sa qualité, ce qui garantit qu'elle parvient aux clients dans des conditions optimales.