ST0446 Titanate de lithium et de lanthane (La(1-x)LixTiO3) Cible de pulvérisation cathodique

Cible de pulvérisation cathodique en titanate de lithium de lanthane Description

La cible de pulvérisation du titanate de lithium de lanthane est un matériau de haute performance conçu pour des méthodes précises de dépôt de couches minces utilisées dans les applications de semi-conducteurs et d'optique. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, elle garantit une qualité de film constante et des performances fiables dans des conditions de pulvérisation exigeantes. La cible est disponible sous forme de disques ou de configurations personnalisées pour répondre aux diverses exigences des applications. Sa composition avancée et ses caractéristiques de liaison robustes en font un choix idéal pour les dispositifs électroniques et les circuits intégrés de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de lanthane et de lithium

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans les condensateurs, les capteurs et les circuits intégrés.
- Revêtements optiques : Utilisés pour la fabrication de filtres optiques et de couches réfléchissantes de haute performance.
- Électronique avancée : Convient à la production de dispositifs MEMS et de composants électroniques de haute précision.
- Recherche et développement : Employé dans les laboratoires pour développer la prochaine génération de techniques de pulvérisation et de dépôt.

Emballage des cibles de pulvérisation du titanate de lithium-lanthanum

Nos cibles de pulvérisation au lithium-titanate de lanthane sont manipulées avec soin afin de préserver leur grande pureté et leur intégrité structurelle. Elles sont emballées selon les spécifications du client, avec des options telles que l'emballage sous vide. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux différentes exigences en matière de stockage et de transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation du titanate de lithium et de lanthane ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les composants électroniques avancés.

Q : Quelle est l'importance de la composition La(1-x)LixTiO3 ?
R : Cette composition permet un contrôle précis des propriétés du matériau, ce qui est crucial pour obtenir un dépôt de film uniforme et une performance fiable des dispositifs.

Q : Comment la pureté de ≥99% est-elle maintenue pendant la production ?
R : Des processus de fabrication avancés et un contrôle de qualité rigoureux garantissent que la cible atteint et maintient un niveau de pureté de ≥99%.

Q : La cible peut-elle être adaptée à des tailles et des formes spécifiques ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Qu'est-ce qui fait de Stanford Advanced Materials un leader dans le domaine des cibles de pulvérisation ?
R : Stanford Advanced Materials se consacre à l'innovation, à la qualité et à la satisfaction des clients, en fournissant constamment des matériaux de haute performance qui répondent aux besoins exigeants des industries modernes de l'électronique et des semi-conducteurs.