ST0438 Oxyde d'indium, d'aluminium et de zinc (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% Cible de pulvérisation cathodique

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde d'indium, d'aluminium et de zinc

La cible de pulvérisation d'oxyde d'indium, d'aluminium et de zinc (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 % en poids est conçue pour les processus de dépôt par pulvérisation de précision. Fabriquée avec une pureté rigoureuse de ≥99%, cette cible garantit des performances constantes et une formation de film uniforme. Conçue pour des applications avancées, elle offre une excellente stabilité pendant le dépôt et peut être personnalisée en disques ou autres formes pour répondre à des exigences de production spécifiques. Idéale pour les industries de haute technologie, cette cible de pulvérisation offre une fiabilité et une efficacité élevées dans la fabrication de films minces.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium, d'aluminium et de zinc

- Dépôt de couches minces : Largement utilisée pour le dépôt de couches d'oxyde métallique dans les semi-conducteurs et les écrans.
- Industrie des semi-conducteurs : Essentiel pour la fabrication de circuits intégrés et de dispositifs microélectroniques avancés.
- Revêtements optiques : Appliqués à la production de lentilles et de filtres optiques d'une uniformité exceptionnelle.
- Cellules solaires : Utilisés pour former des couches conductrices transparentes essentielles pour les applications photovoltaïques.
- Recherche et développement : Parfait pour les montages expérimentaux dans les études de science des matériaux et d'ingénierie des surfaces.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium, d'aluminium et de zinc

Nos cibles de pulvérisation sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité et leurs performances. Les produits sont scellés sous vide et sécurisés dans un emballage personnalisé conçu pour éviter toute contamination, ce qui garantit que chaque cible arrive en parfait état pour une utilisation immédiate.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour déposer des couches minces sur des substrats pour l'électronique, l'optique et d'autres applications industrielles.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation affecte-t-elle ses performances ?
R : Une pureté plus élevée (≥99%) minimise les impuretés indésirables pendant le dépôt, ce qui permet d'uniformiser les propriétés du film et d'améliorer les performances du dispositif.

Q : La cible peut-elle être adaptée à différentes formes ?
R : Oui, notre produit est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisé pour répondre à des exigences industrielles spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de revêtements optiques, la fabrication de cellules solaires et diverses applications de recherche et développement.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée et manipulée ?
R : La cible doit être stockée dans un environnement propre et sec, et manipulée avec soin à l'aide d'outils appropriés afin d'éviter toute contamination ou dommage physique.