Arrêté ST0437 Cible de pulvérisation de l'oxyde de gadolinium et de cérium (Gd0.2Ce0.8O2)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de cérium et de gadolinium

La cible de pulvérisation d'oxyde de gadolinium et de cérium est un matériau composite céramique de haute qualité synthétisé à partir de Gd0.2Ce0.8O2, garantissant un niveau de pureté de ≥99%. Conçue pour des applications de pulvérisation avancées, la cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences industrielles spécifiques. Sa composition unique permet une pulvérisation stable et uniforme, contribuant ainsi au dépôt de couches minces de haute performance avec une contamination minimale. Idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et divers procédés d'ingénierie de surface, cette cible offre des performances constantes, même dans des conditions exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de cérium et de gadolinium

- Dépôt de couches minces : Idéal pour produire des films uniformes dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs électroniques.
- Revêtements optiques : Utilisée pour le dépôt de revêtements de haute qualité pour les lentilles, les miroirs et les filtres optiques.
- Ingénierie des surfaces : Améliore la résistance à l'usure et la protection contre la corrosion de divers composants industriels.
- Électronique avancée : Essentiel pour la fabrication de composants d'appareils électroniques de haute performance.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de cérium et de gadolinium

Nos cibles de pulvérisation sont usinées avec précision et inspectées méticuleusement pour garantir une qualité optimale. Chaque cible est scellée sous vide dans un emballage résistant à l'humidité et est expédiée dans des conditions contrôlées afin de conserver son état impeccable pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de l'oxyde de cérium et de gadolinium dans une cible de pulvérisation ?
R : Il offre une composition stable et de haute pureté qui garantit une pulvérisation uniforme et une qualité supérieure des couches minces pour les applications avancées.

Q : Les tailles de ces cibles de pulvérisation sont-elles personnalisables ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard et peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui peuvent bénéficier le plus de l'utilisation de ces cibles de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, l'électronique avancée et l'ingénierie de surface peuvent grandement bénéficier de ses hautes performances.

Q : Quel est l'impact de la haute pureté (≥99%) du matériau sur ses performances ?
R : La pureté élevée minimise la contamination pendant le processus de dépôt, ce qui permet d'améliorer l'uniformité du film et les propriétés électriques et optiques.

Q : Quel rôle jouent les matériaux de liaison dans les cibles de pulvérisation ?
R : Les liaisons à l'indium et à l'élastomère assurent un montage sûr et une gestion thermique efficace pendant les processus de pulvérisation, contribuant ainsi à la stabilité et aux performances globales de la cible.