ST0435 Cible de pulvérisation cathodique d'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3)

Cible de pulvérisation cathodique d'oxyde de nickel et d'europium (EuNiO3) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de nickel et d'europium (EuNiO3) est conçue pour une grande précision dans les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée selon des contrôles de qualité rigoureux, la cible conserve une pureté de ≥99% et est disponible sous forme de disque standard et d'options personnalisées. Avec une densité robuste de 7,57 g/cm3 et un système de liaison spécialisé utilisant l'indium et l'élastomère, elle est idéalement conçue pour la fabrication avancée de semi-conducteurs, la pulvérisation de haute qualité et les applications de recherche de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3)

- Dépôt de couches minces : Permet la création de couches minces uniformes et de haute qualité pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs.
- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour la croissance contrôlée des films dans les dispositifs électroniques avancés.
- Optoélectronique : Facilite le développement de composants optiques de haute performance.
- Systèmes microélectromécaniques (MEMS) : permet la fabrication de dispositifs complexes et stables à micro-échelle.
- Recherche et développement : Fournit une source de matériaux fiable pour les études expérimentales dans le domaine de la science des matériaux avancés.

Emballage de cibles de pulvérisation d'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3) sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport. Les options comprennent l'emballage sous vide ou des solutions personnalisées pour répondre à des exigences d'expédition spécifiques, garantissant que le produit arrive dans des conditions optimales.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition de cette cible de pulvérisation ?
R : La cible est entièrement composée d'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3) avec une pureté de ≥99%.

Q : Les formes de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disque standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelle est la densité de la cible de pulvérisation de l'oxyde d'europium et de nickel (EuNiO3) ?
R : La densité est de 7,57 g/cm3.

Q : Quels sont les matériaux de liaison utilisés dans cette cible ?
R : La cible utilise un système de liaison à base d'indium et d'élastomère.

Q : Comment le produit est-il emballé pour une livraison en toute sécurité ?
R : Le produit est scellé sous vide ou emballé à l'aide de solutions sur mesure pour garantir qu'il conserve sa qualité pendant le transport.