ST0433 Cérium Yttrium Ferrite Cible de pulvérisation cathodique

Description de la cible de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium

La cible de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium est un produit spécialisé conçu pour les applications de pulvérisation avancées. Utilisant une composition précise de Ce2.5Y0.5Fe5O12, elle offre des performances exceptionnelles dans la production de films minces uniformes et de haute qualité. Cette cible est méticuleusement conçue pour soutenir les applications dans la technologie des micro-ondes, les dispositifs magnéto-optiques et d'autres systèmes électroniques de haute technologie. Sa grande pureté et ses options de forme personnalisables garantissent des performances optimales et une adaptabilité à divers environnements industriels et de recherche.

Applications des cibles de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium

- Dépôt de couches minces : Essentiel pour créer des films magnétiques et optiques uniformes dans les dispositifs à haute fréquence.
- Appareils à micro-ondes : Employés dans la fabrication de composants essentiels aux systèmes à micro-ondes et de communication.
- Composants magnéto-optiques : Idéal pour développer des films magnétiques de grenat de précision utilisés dans les isolateurs et les capteurs optiques.
- Capteurs : Utilisés dans la technologie des capteurs avancés nécessitant des films minces stables et cohérents.
- Recherche et développement : Précieux pour les montages expérimentaux en science des matériaux et le prototypage de dispositifs électroniques de pointe.

Emballage des cibles de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium

Nos cibles de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver l'intégrité du produit.
- Emballage sous vide pour la protection contre les facteurs environnementaux.
- Un emballage personnalisé est disponible sur demande pour répondre à des exigences spécifiques en matière d'expédition et de stockage.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le dépôt de couches minces où les atomes sont éjectés et déposés sur un substrat pour former un film précis et uniforme.

Q : Quels sont les principaux avantages de l'utilisation de la ferrite de cérium et d'yttrium dans une cible de pulvérisation ?
R : Sa composition unique garantit une pureté et une performance élevées dans la production de films minces uniformes, ce qui la rend idéale pour les applications électroniques et magnéto-optiques de pointe.

Q : Comment garantissez-vous la qualité de la cible de pulvérisation ?
R : La qualité est maintenue grâce à des procédés de fabrication de pointe et à un contrôle de qualité rigoureux, garantissant une pureté et des performances constantes.

Q : Existe-t-il des options de personnalisation pour les cibles de pulvérisation ?
R : Oui, la cible peut être produite dans différentes formes et tailles en fonction des exigences spécifiques de l'application.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation de ferrite de cérium et d'yttrium sont-elles couramment utilisées ?
R : Elles sont largement utilisées dans l'électronique, les communications par micro-ondes, les dispositifs magnéto-optiques et les laboratoires de recherche axés sur les technologies avancées de couches minces.