ST0432 Cérium Bismuth Ferrite Cible de pulvérisation cathodique

Cible de pulvérisation de ferrite de cérium et de bismuth Description

La cible de pulvérisation de ferrite de bismuth et de cérium est un matériau de haute performance conçu pour les processus de dépôt de couches minces les plus modernes. Fabriquée dans le strict respect des normes de qualité, cette cible offre une uniformité et une cohérence exceptionnelles, garantissant des performances fiables dans les applications de revêtement de précision. Ses formes personnalisables permettent une intégration transparente dans divers systèmes de dépôt, ce qui la rend adaptée aux industries qui exigent une efficacité et une durabilité élevées.

Applications des cibles de pulvérisation de ferrite de cérium et de bismuth

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des revêtements très uniformes dans la fabrication de produits microélectroniques et de capteurs.
- Stockage magnétique : Utilisé pour produire des couches magnétiques pour les supports de stockage de données.
- Dispositifs optoélectroniques : Essentiel pour la fabrication d'écrans, de DEL et de panneaux photovoltaïques.
- Capteurs avancés : Fournit des matériaux de précision pour les applications de détection sensibles.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour expérimenter de nouvelles techniques de dépôt et de nouveaux matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation de ferrite de bismuth et de cérium

Chaque cible de pulvérisation de ferrite de bismuth et de cérium est emballée individuellement dans des conditions contrôlées afin d'éviter toute contamination et tout dommage pendant le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients et garantir que le produit arrive en parfait état.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur où des particules sont éjectées de la cible pour former un film mince sur un substrat.

Q : Quelle est la composition de la cible de pulvérisation Cerium Bismuth Ferrite ?
R : La composition est Ce2.2Bi0.8Fe5O12, ce qui garantit une cible de haute pureté pour les applications industrielles spécialisées.

Q : Des formes personnalisées sont-elles disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, la cible de pulvérisation de ferrite de cérium et de bismuth est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'une application spécifique.

Q : Dans quelles industries cette cible de pulvérisation peut-elle être utilisée ?
R : Elle est idéale pour la fabrication de dispositifs électroniques, les solutions de stockage magnétique, les dispositifs optoélectroniques, les capteurs avancés et les applications de recherche et développement.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) de cette cible affecte-t-elle ses performances ?
R : La haute pureté garantit des propriétés matérielles constantes et des performances optimales lors de la pulvérisation, ce qui se traduit par un dépôt uniforme de couches minces et une fiabilité accrue des dispositifs.