ST0411 Cible de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO)

La cible de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO) est conçue pour les processus de pulvérisation de précision dans la fabrication de semi-conducteurs et de revêtements. D'une pureté ≥99% et disponible en disque ou en configuration personnalisée, cette cible garantit des performances constantes sous des charges thermiques élevées. Spécifiquement conçue pour la pulvérisation RF, elle offre des conditions de plasma stables, ce qui en fait un excellent choix pour les applications nécessitant un dépôt de film fiable et de haute qualité.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéal pour le dépôt de couches diélectriques et isolantes dans les dispositifs microélectroniques.
- Revêtement de surface : Utilisé pour appliquer des revêtements protecteurs et fonctionnels sur divers substrats.
- Dépôt de couches minces : Convient à la création de couches minces uniformes dans la fabrication de dispositifs électroniques et optiques.
- Recherche et développement : Parfait pour les processus de pulvérisation expérimentaux et les études sur les matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de calcium sont emballées dans des conteneurs sécurisés de haute qualité afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO) ?
R : Elle est principalement utilisée pour les processus de dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, le revêtement de surface et les applications de recherche avancée.

Q : Quel processus de pulvérisation est recommandé pour cette cible ?
R : La cible est spécialement conçue pour la pulvérisation RF, qui permet d'obtenir un plasma stable et un dépôt de matière uniforme.

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible ?
R : La cible de pulvérisation d'oxyde de calcium (CaO) est fabriquée avec une pureté de ≥99%, ce qui garantit une qualité élevée et des performances fiables.

Q : La forme de la cible peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée en fonction des exigences spécifiques de conception et de taille.

Q : Comment la cible doit-elle être stockée pour conserver sa qualité ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, à l'abri des contaminants, et manipulée avec soin pour préserver son intégrité pendant l'utilisation.