Cible de pulvérisation rotative en titane (Ti) Description
La cible de pulvérisation rotative en titane (Ti) est conçue pour le dépôt de couches minces de haute précision et les processus de revêtement avancés. Fabriquée à l'aide de techniques de pointe, cette cible offre une uniformité et des performances exceptionnelles pour les applications de pulvérisation. Idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique et les traitements de surface industriels, elle garantit une contamination minimale et une durabilité exceptionnelle dans des conditions opérationnelles rigoureuses.
Applications des cibles rotatives de pulvérisation de titane (Ti)
- Dépôt de couches minces : Essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs microélectroniques.
- Revêtements de surface : Fournit des revêtements robustes et durables pour les applications aérospatiales, automobiles et industrielles.
- Microélectronique : Optimisé pour les applications de haute précision dans la fabrication de circuits et de dispositifs électroniques.
- Fabrication industrielle : Convient à diverses techniques de revêtement de haute performance dans des environnements exigeants.
Conditionnement des cibles de pulvérisation rotative de titane (Ti)
Notre cible de pulvérisation rotative de titane (Ti) est emballée de manière sécurisée afin de préserver son intégrité et ses performances pendant le stockage et le transport. Les options d'emballage comprennent des configurations sur mesure adaptées aux exigences de votre projet, garantissant que la cible arrive en parfait état.
Questions fréquemment posées
Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement la cible de pulvérisation rotative de titane (Ti) ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique, l'aérospatiale, l'automobile et les applications de revêtement industriel.
Q : La cible peut-elle être adaptée à des exigences de taille spécifiques ?
R : Oui, les tailles disponibles sont personnalisées pour répondre aux besoins de production individuels.
Q : En quoi le niveau de pureté élevé (≥99%) est-il bénéfique pour le processus de pulvérisation ?
R : La pureté élevée garantit une contamination minimale, ce qui permet d'obtenir une qualité de film supérieure et des performances de pulvérisation fiables.
Q : Quelle est l'importance d'une conception rotative dans les cibles de pulvérisation ?
R : La conception rotative contribue à une érosion uniforme du matériau et à une meilleure stabilité pendant le processus de pulvérisation.
Q : Comment la cible de pulvérisation rotative en titane (Ti) doit-elle être stockée et transportée ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement contrôlé et d'utiliser l'emballage sécurisé et personnalisé fourni pour éviter tout dommage pendant le transport.
