ST0341 Cible de pulvérisation du zirconate de gadolinium (Gd2Zr2O7)

Cible de pulvérisation au zirconate de gadolinium (Gd2Zr2O7) Description

La cible de pulvérisation au zirconate de gadolinium (Gd₂Zr₂O₇) est un matériau céramique haute performance spécialement conçu pour les applications de pulvérisation avancées. Sa composition chimique exceptionnelle lui confère une stabilité remarquable à très haute température, ce qui en fait un candidat idéal pour les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible offre une qualité constante et d'excellentes performances. Le produit est disponible sous forme de disques standard ou de cibles sur mesure adaptées aux diverses exigences des applications industrielles.

Applications des cibles de pulvérisation du zirconate de gadolinium (Gd2Zr2O7)

- Dépôt de couches minces : Optimale pour la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les processus de pulvérisation de qualité recherche.
- Revêtements à haute température : Assure une protection robuste dans des environnements thermiques extrêmes.
- Ingénierie céramique : Pour les applications exigeant des matériaux ayant des points de fusion élevés et des propriétés structurellement stables.
- Recherche et développement : Idéal pour les études expérimentales et l'innovation dans le domaine de la science des matériaux avancés.

Cibles de pulvérisation au zirconate de gadolinium (Gd2Zr2O7)

Nos cibles de pulvérisation au zirconate de gadolinium sont soigneusement emballées pour garantir leur état impeccable pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de nos clients en matière de manutention et d'expédition.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation au zirconate de gadolinium ?
R : Elle est largement utilisée dans le dépôt de couches minces pour les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques, les couches protectrices à haute température et diverses applications de recherche.

Q : Comment la cible de pulvérisation est-elle maintenue à un niveau de pureté élevé (≥99%) ?
R : Notre processus de fabrication comprend un contrôle de qualité rigoureux et des techniques avancées de synthèse de la céramique afin de garantir une pureté et des performances élevées et constantes.

Q : Puis-je demander une forme ou une taille personnalisée pour la cible de pulvérisation ?
R : Oui, outre notre forme de disque standard, nous proposons des cibles sur mesure pour répondre parfaitement aux exigences industrielles spécifiques.

Q : Pour quels procédés de pulvérisation cette cible convient-elle ?
R : Bien qu'elle soit conçue pour des applications de pulvérisation avancées, la cible fonctionne mieux lorsqu'elle est utilisée avec les techniques de dépôt spécifiées par les directives de votre système de pulvérisation.

Q : Que faut-il prendre en compte lors du stockage et de la manipulation de ces cibles ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement propre et sec et de les manipuler avec précaution afin de préserver leur intégrité structurelle et leurs caractéristiques de haute performance.