ST0340 Cible de pulvérisation de l'oxyde de baryum et de cérium (BaCeO₃)

Cible de pulvérisation de l'oxyde de baryum et de cérium (BaCeO₃) Description

La cible de pulvérisation de l'oxyde de baryum et de cérium (BaCeO₃) est conçue à l'aide de techniques de traitement avancées pour offrir des performances fiables dans les applications de dépôt et de revêtement de couches minces. Sa grande pureté (≥99%) et ses formes personnalisables, disponibles sous forme de disques standard ou de conceptions sur mesure, en font un choix parfait pour les industries exigeant précision et durabilité. Les propriétés robustes du matériau lui permettent de conserver son intégrité dans des conditions de haute température, ce qui le rend particulièrement adapté aux applications sophistiquées dans les domaines de l'électronique et de l'énergie.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde de baryum et de cérium (BaCeO₃)

- Dépôt de couches minces : Essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs électroniques.
- Technologies de revêtement : Idéales pour les processus de pulvérisation thermique et plasma dans les systèmes de revêtement avancés.
- Recherche et développement : Fréquemment utilisé dans les installations expérimentales pour la science des matériaux et les études d'ingénierie.
- Applications énergétiques : Convient aux piles à combustible à haute performance et aux composants céramiques.

Cibles de pulvérisation de l'oxyde de baryum et de cérium (BaCeO₃)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de baryum et de cérium est soigneusement emballée sous vide afin de préserver sa qualité et sa pureté tout au long du stockage et du transport. Les options d'emballage standard sont disponibles en sacs de 5 kg ou en fûts de 25 kg. Des emballages personnalisés sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications les plus adaptées à la cible de pulvérisation d'oxyde de baryum et de cérium ?
R : Elle est idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les processus de revêtement avancés, les expériences de recherche et les applications énergétiques.

Q : Des tailles ou des formes personnalisées sont-elles disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque standard ainsi que sous forme personnalisée en fonction des spécifications du client.

Q : Comment le niveau de pureté élevé (≥99%) est-il maintenu pendant la production ?
R : Le processus de fabrication fait appel à des mesures strictes de contrôle de la qualité et à des techniques de traitement avancées pour garantir que le matériau atteint ou dépasse constamment le niveau de pureté spécifié.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que l'électronique des semi-conducteurs, l'énergie et la recherche sur les matériaux avancés font confiance à ce produit pour ses performances supérieures dans les applications de dépôt de film et de revêtement.

Q : Comment la cible de pulvérisation d'oxyde de baryum et de cérium doit-elle être stockée et manipulée ?
R : Il est recommandé de stocker la cible de pulvérisation dans un environnement sec et propre afin d'éviter toute contamination et de préserver ainsi sa qualité et son efficacité au fil du temps.