Arrêté (Arrêté) ST0338 Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de gallium (IGO)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de gallium (IGO)

La cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de gallium (IGO) est développée avec une composition d'In2O3:Ga2O3 et une pureté de ≥99%, garantissant des performances supérieures dans les processus de pulvérisation. Conçue pour le dépôt de couches minces de précision, cette cible répond aux exigences élevées des industries des semi-conducteurs et du photovoltaïque tout en offrant des formes personnalisables pour les besoins d'applications spécifiques.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et de gallium (IGO)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de films minces semi-conducteurs et photovoltaïques de haute qualité.
- Applications de revêtement : Utilisées dans la production de revêtements qui exigent une uniformité et des performances excellentes.
- Électronique avancée : Convient pour divers composants d'appareils électroniques de haute technologie.
- Recherche et développement : Un excellent choix pour les processus de pulvérisation expérimentaux dans la recherche technologique de pointe.

Cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et de gallium (IGO)

La cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de gallium (IGO) est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa pureté et son intégrité tout au long du stockage et du transport. Les options d'emballage standard comprennent l'emballage sous vide ou des arrangements personnalisés basés sur les exigences du client.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de gallium (IGO) ?
R : Il s'agit d'une cible de haute pureté fabriquée à partir d'une composition In2O3:Ga2O3, utilisée dans les processus de pulvérisation pour déposer des films minces et uniformes sur divers substrats.

Q : Dans quels procédés de pulvérisation la cible IGO peut-elle être utilisée ?
R : La cible est compatible avec les techniques de pulvérisation standard, y compris la pulvérisation magnétron DC et RF, ce qui la rend polyvalente pour différents environnements de dépôt.

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation de la cible de pulvérisation IGO ?
R : La cible offre une excellente pureté du matériau, des formes personnalisables et des performances constantes, ce qui permet un contrôle précis des propriétés du film dans les applications industrielles de haute technologie.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation IGO ?
R : Les industries telles que les semi-conducteurs, la photovoltaïque, l'électronique avancée et les laboratoires de recherche utilisent les cibles de pulvérisation IGO pour leurs applications de dépôt critiques.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation IGO peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre aux exigences d'une application spécifique.