ST0336 Cible de pulvérisation du zirconate de calcium (CaZrO3)

Cible de pulvérisation au zirconate de calcium (CaZrO3) Description

La cible de pulvérisation au zirconate de calcium (CaZrO3) est conçue pour offrir une grande fiabilité dans les technologies de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible offre une cohérence et une durabilité essentielles pour la fabrication de semi-conducteurs et les revêtements industriels. Son point de fusion élevé de 2345℃ et sa densité robuste de 5 g/cm³ garantissent un fonctionnement stable, même dans des environnements difficiles à haute température.

Applications des cibles de pulvérisation du zirconate de calcium (CaZrO3)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour produire des films de haute qualité dans la fabrication de semi-conducteurs et d'appareils électroniques.
- Revêtements de surface : Fournit des revêtements durables pour améliorer les performances dans les applications industrielles.
- Électronique avancée : Utilisée dans la fabrication et la recherche de dispositifs microélectroniques.
- Outils industriels : Améliore la résistance à l'usure et la longévité des composants revêtus.
- Recherche et développement : Convient aux processus de revêtement expérimentaux et innovants.

Emballage des cibles de pulvérisation au zirconate de calcium (CaZrO3)

Nos cibles de pulvérisation au zirconate de calcium sont soigneusement emballées pour assurer une protection maximale pendant le transport et le stockage. Elles sont généralement emballées dans des matériaux résistants à l'humidité et à l'électricité statique. Les options d'emballage peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale des cibles de pulvérisation au zirconate de calcium ?
R : Elles sont principalement utilisées pour le dépôt de couches minces dans les processus de fabrication de semi-conducteurs et de revêtement de surface.

Q : Comment le point de fusion élevé améliore-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé de 2345℃ garantit la stabilité et la fiabilité des performances lors des processus de dépôt à haute température, en réduisant le risque de dégradation thermique.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation au zirconate de calcium ?
R : Ces cibles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la production d'appareils électroniques, les revêtements industriels et les applications de recherche.

Q : Les formes et les tailles des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles de pulvérisation du zirconate de calcium sont disponibles sous forme de disques ou de configurations personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Comment une pureté de ≥99% influence-t-elle l'efficacité de la cible de pulvérisation ?
R : Un niveau de pureté élevé minimise la contamination, garantissant le dépôt de couches minces cohérentes et de haute qualité, ce qui est crucial pour les applications électroniques et de revêtement avancées.