ST0328 Cible de pulvérisation de tellurure de nickel (NiTe)

Description de la cible de pulvérisation en tellurure de nickel (NiTe)

La cible de pulvérisation en tellurure de nickel (NiTe) est conçue pour les processus de pulvérisation haute performance utilisés dans les applications industrielles avancées. Fabriquée avec une pureté de ≥99% et composée uniquement de NiTe, cette cible garantit une qualité constante et un transfert efficace de matériau pendant la pulvérisation. Le produit est disponible sous forme de disques standard ou de formes personnalisées, ce qui le rend suffisamment polyvalent pour répondre aux demandes spécifiques des systèmes de pulvérisation de haute précision dans diverses industries.

Applications des cibles de pulvérisation du tellurure de nickel (NiTe)

- Revêtement de semi-conducteurs : Idéal pour les techniques de dépôt en phase vapeur dans l'industrie des semi-conducteurs.
- Dépôt de couches minces : Fréquemment utilisé dans la fabrication de revêtements en couches minces de haute qualité.
- Modification de surface : Améliore les propriétés de la surface pour une durabilité et des performances accrues.
- Cellules solaires et photovoltaïques : convient aux applications de précision dans la production de dispositifs photovoltaïques.
- Fabrication de dispositifs électroniques : Essentiel pour la fabrication de produits microélectroniques, offrant des performances de pulvérisation fiables et efficaces.

Emballage des cibles de pulvérisation du tellurure de nickel (NiTe)

Nos cibles de pulvérisation au tellurure de nickel (NiTe) sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver l'intégrité du produit pendant le transport. Les options comprennent un emballage scellé sous vide conçu pour maintenir la qualité des performances, avec des configurations d'emballage adaptées aux exigences de taille du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications qui conviennent le mieux aux cibles de pulvérisation de tellurure de nickel (NiTe) ?
R : Elles sont idéales pour le revêtement de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, la modification de surface, la fabrication de cellules solaires et la fabrication d'appareils électroniques.

Q : Quel est l'impact du niveau de pureté de ≥99% sur les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée garantit un dépôt constant, une contamination minimale et des performances supérieures dans les processus critiques, ce qui est essentiel pour les applications de haute précision.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de dimensions et de conception.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cibles de pulvérisation en tellurure de nickel ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la photovoltaïque, la microélectronique et les revêtements avancés bénéficient considérablement des propriétés de haute performance de ces cibles.

Q : Comment ces cibles de pulvérisation doivent-elles être stockées et manipulées ?
R : Elles doivent être manipulées avec soin, stockées dans un environnement contrôlé et transportées dans un emballage scellé sous vide afin de préserver leur intégrité et leurs performances.