ST0321 Cible de pulvérisation du tellurure de gallium (Ga2Te3)

Description de la cible de pulvérisation de tellurure de gallium (Ga2Te3)

La cible de pulvérisation de tellurure de gallium (Ga2Te3) fournie par Stanford Advanced Materials est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible offre des performances fiables et constantes tout en conservant son intégrité structurelle à des températures élevées. Ses formes personnalisables, y compris les disques et les formes personnalisées spécialisées, permettent une intégration polyvalente dans divers systèmes de dépôt. Conçue avec précision, elle répond aux normes de qualité rigoureuses exigées par les industries des semi-conducteurs et des matériaux avancés.

Applications des cibles de pulvérisation du tellurure de gallium (Ga2Te3)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces de haute qualité dans la fabrication de produits électroniques.
- Revêtements de surface : Utilisé dans les processus de pulvérisation pour déposer des revêtements uniformes sur une variété de substrats.
- Recherche et développement : Convient à la recherche avancée en science des matériaux et en nanotechnologie.
- Applications industrielles personnalisées : Parfaites pour les cibles personnalisées dans les systèmes de pulvérisation spécialisés.

Emballage des cibles de pulvérisation de tellurure de gallium (Ga2Te3)

Nos cibles de pulvérisation de tellurure de gallium sont emballées avec le plus grand soin pour garantir qu'elles arrivent en parfait état. Les solutions d'emballage sont personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de chaque cible, en fournissant un emballage sûr et protecteur pour maintenir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quel est le niveau de pureté des cibles de pulvérisation de tellurure de gallium ?
R : Le niveau de pureté est maintenu à ≥99% pour garantir des performances et une fiabilité élevées.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de conception spécifiques.

Q : Quelles sont les applications qui conviennent le mieux à la cible de pulvérisation du tellurure de gallium (Ga2Te3) ?
R : Elle est idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements de surface en couches minces et la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Comment le point de fusion influence-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Un point de fusion de 825℃ garantit que la cible reste stable et efficace dans des conditions de pulvérisation à haute température.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir la qualité du produit lors de son conditionnement ?
R : Les cibles sont emballées dans des solutions personnalisées et sécurisées conçues pour protéger le produit pendant le stockage et le transport, préservant ainsi sa haute qualité.