ST0316 Cible de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe)

Description de la cible de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe)

La cible de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe) est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications exigeantes de haute technologie. Fabriquée à l'aide de contrôles rigoureux et de matières premières de haute pureté, cette cible garantit un dépôt constant et une excellente uniformité du film. Sa capacité de pulvérisation RF, associée à des propriétés physiques maintenues avec précision, la rend idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique et les applications de couches minces avancées.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe)

- Dépôt de couches minces de semi-conducteurs : Obtention de revêtements très uniformes pour les circuits intégrés et la microélectronique.
- Dispositifs optoélectroniques : Idéal pour la fabrication de DEL, de lasers et de photodétecteurs.
- Revêtements optiques : Utilisés dans la production de filtres, de lentilles et de fenêtres nécessitant une clarté optique précise.
- Ingénierie des surfaces : Améliore les performances et la durabilité des composants dans la microfabrication et d'autres processus avancés.

Emballage de cibles de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe)

Nos cibles de pulvérisation au séléniure de zinc (ZnSe) sont méticuleusement emballées pour préserver l'intégrité du produit pendant le transport. Elles sont scellées sous vide et disponibles dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de chaque projet.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'utilisation principale des cibles de pulvérisation de séléniure de zinc (ZnSe) ?
R : Elles sont principalement utilisées pour déposer des couches minces de haute qualité dans les applications semi-conductrices et optoélectroniques.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation de séléniure de zinc est-elle maintenue ?
R : La pureté est assurée par des contrôles de fabrication rigoureux et l'utilisation de matières premières de haute qualité, ce qui permet d'atteindre une pureté de ≥99%.

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour ces cibles ?
R : La pulvérisation RF est recommandée pour ces cibles afin d'obtenir une uniformité de film et une efficacité de dépôt optimales.

Q : Des formes et des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour les cibles de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disques ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques de taille et de forme.

Q : Quels sont les matériaux de liaison utilisés dans ces cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles utilisent des liaisons à l'indium et à l'élastomère, qui offrent une excellente stabilité thermique et électrique pendant le processus de pulvérisation.