ST0314 Cible de pulvérisation de séléniure de titane (TiSe₂)

Cible de pulvérisation de séléniure de titane (TiSe₂) Description

La cible de pulvérisation de séléniure de titane (TiSe₂) est conçue pour le dépôt de couches minces de précision utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs et d'optoélectronique. Fabriquée selon une norme de pureté élevée (≥99%), cette cible garantit d'excellentes performances et une grande fiabilité dans les processus de dépôt physique en phase vapeur. Sa forme et sa taille personnalisables en font un composant idéal pour les laboratoires de recherche et les lignes de production de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure de titane (TiSe₂)

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Indispensable pour déposer des couches minces dans les circuits intégrés et les dispositifs microélectroniques.
- Cellules photovoltaïques : Utilisées dans la production de cellules solaires pour obtenir une absorption efficace de la lumière et une conversion de l'énergie.
- Revêtements optiques : Appliqués à la fabrication de capteurs et de composants optiques avancés.
- Ingénierie des surfaces : Idéal pour modifier les propriétés des surfaces dans diverses applications industrielles.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour les études sur la science des matériaux et la recherche sur les dépôts avancés.

Emballage de cibles de pulvérisation de séléniure de titane (TiSe₂)

Nos cibles de pulvérisation de séléniure de titane sont soigneusement emballées pour garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Elles sont solidement scellées dans des matériaux d'emballage antistatiques et inertes. Des options de taille personnalisée sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les applications typiques des cibles de pulvérisation du séléniure de titane ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les processus de revêtement optique, la production de cellules photovoltaïques et la recherche sur les matériaux avancés.

Q2 : Comment le niveau de pureté de ≥99% est-il atteint ?
R : Le matériau est soumis à des processus de purification rigoureux et à des mesures complètes de contrôle de la qualité, y compris des analyses spectroscopiques avancées, afin de garantir une pureté élevée et constante.

Q3 : Est-il possible de produire des formes ou des tailles personnalisées ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de séléniure de titane sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de conception et d'application.

Q4 : Quelle est la signification du point de fusion de ~1000℃ ?
R : Le point de fusion indique la stabilité thermique du matériau pendant les processus de pulvérisation ; cependant, les conditions opérationnelles sont maintenues bien en dessous de cette température pour garantir des performances constantes.

Q5 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour cette cible de pulvérisation ?
R : La cible doit être stockée dans un environnement propre et sec, dans un emballage antistatique, afin d'éviter toute contamination et de préserver l'intégrité du matériau pendant la manipulation et le transport.