ST0312 Cible de pulvérisation de séléniure de niobium (NbSe2)

Description de la cible de pulvérisation de séléniure de niobium (NbSe2)

La cible de pulvérisation de séléniure de niobium (NbSe2) est conçue pour des performances optimales dans les processus de dépôt physique en phase vapeur. Avec une pureté élevée de ≥99% et une composition de NbSe₂ contrôlée avec précision, cette cible offre une pulvérisation cohérente et efficace, garantissant un dépôt uniforme de couches minces. Idéale pour les applications nécessitant une fiabilité et des performances élevées, elle est utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optique avancée et divers dispositifs microélectroniques. Ses formes de disque sur mesure permettent une polyvalence et une adaptation à des systèmes de traitement spécifiques, ce qui en fait un composant essentiel dans les applications industrielles de haute précision.

Applications des cibles de pulvérisation du séléniure de niobium (NbSe2)

- Fabrication de semi-conducteurs : Indispensable pour déposer des couches minces dans les circuits intégrés et autres dispositifs microélectroniques.
- Optique et revêtements : Utilisées dans la fabrication de revêtements optiques et de couches résistantes à la corrosion.
- Recherche et développement : Idéal pour les laboratoires engagés dans l'étude des matériaux avancés et des nouvelles technologies de revêtement.
- Électronique industrielle : Utilisé dans la production de composants pour lesquels la précision et l'uniformité du film sont essentielles.

Emballage des cibles de pulvérisation du séléniure de niobium (NbSe2)

Nos cibles de pulvérisation de séléniure de niobium sont soigneusement emballées afin de préserver l'intégrité du produit et d'assurer un transport sûr.
Options d'emballage :
- Emballage standard sous vide pour les disques
- Emballage personnalisé disponible sur demande pour répondre aux besoins spécifiques d'expédition et de stockage.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est une source matérielle utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour déposer des couches minces sur des substrats par pulvérisation d'atomes sur la surface de la cible.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation sont-elles le plus souvent utilisées ?
R : Les cibles de pulvérisation sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, la microélectronique et diverses applications de recherche.

Q : La forme et la taille des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de séléniure de niobium sont disponibles sous forme de disques ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences spécifiques de votre processus.

Q : Comment garantissez-vous la pureté et la qualité des cibles de pulvérisation ?
R : Nos produits sont soumis à des processus rigoureux de contrôle de la qualité et sont fabriqués à l'aide de techniques avancées pour garantir une pureté de ≥99% et des performances constantes.

Q : Quelles sont les conditions de stockage idéales pour les cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles de pulvérisation dans un environnement propre et sec et de préférence dans leur emballage d'origine sous vide afin de préserver leur qualité jusqu'à leur utilisation.