ST0311 Cible de pulvérisation de séléniure de molybdène (MoSe2)

Cible de pulvérisation de séléniure de molybdène (MoSe2) Description

La cible de pulvérisation de séléniure de molybdène (MoSe₂) est fabriquée avec précision pour offrir des performances matérielles supérieures dans diverses applications de haute technologie. Conçue pour être utilisée dans des systèmes de pulvérisation avec des alimentations RF, RF-R et DC, cette cible assure un dépôt fiable et uniforme de couches minces. Sa grande pureté et sa composition contrôlée garantissent une excellente cohérence et reproductibilité, ce qui en fait un choix optimal pour la fabrication de semi-conducteurs et les industries de revêtement. Les options personnalisées de la cible permettent de l'adapter à divers systèmes de production, ce qui favorise le progrès continu des technologies microélectroniques et photovoltaïques.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure de molybdène (MoSe2)

- Dépôt de couches minces : Utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, de cellules photovoltaïques et de dispositifs microélectroniques.
- Revêtements de surface : Appliqués dans les technologies de revêtement pour améliorer la résistance à l'usure et les propriétés de surface.
- Électronique avancée : Utilisée dans la production de composants électroniques complexes nécessitant une stabilité et une uniformité élevées.
- Recherche et développement : Idéal pour les projets de R&D universitaires et industriels qui explorent les nouvelles propriétés des matériaux.

Emballage de cibles de pulvérisation de séléniure de molybdène (MoSe2)

Nos cibles de pulvérisation au séléniure de molybdène (MoSe₂) sont emballées avec soin pour assurer une protection optimale et une conservation de la qualité pendant le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à différents besoins logistiques, garantissant que chaque disque conserve son état impeccable jusqu'à l'installation.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications courantes des cibles de pulvérisation MoSe₂ ?
R : Elles sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces pour les semi-conducteurs, les cellules photovoltaïques, l'électronique avancée et les revêtements de surface.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les systèmes de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Comment puis-je demander une cible de pulvérisation personnalisée ?
R : Des tailles et des formes personnalisées sont disponibles ; veuillez contacter notre équipe commerciale pour lui faire part de vos besoins spécifiques.

Q : Quelle est l'importance d'une pureté élevée (≥99%) dans la cible ?
R : Une pureté élevée garantit des performances de pulvérisation constantes et minimise la contamination pendant le processus de dépôt.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée avant d'être utilisée ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec et manipulée avec soin pour préserver l'intégrité de sa surface et la qualité de ses performances.