ST0309 Cible de pulvérisation de séléniure d'indium (In2Se3)

Description de la cible de pulvérisation de séléniure d'indium (In2Se3)

La cible de pulvérisation de séléniure d'indium est un matériau de première qualité conçu pour les applications de pulvérisation de haute précision. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible garantit d'excellentes performances dans les processus de dépôt, offrant une stabilité thermique et une uniformité exceptionnelles. Ses formes et tailles personnalisables répondent à diverses exigences industrielles, ce qui en fait un choix idéal pour les instituts de recherche, la fabrication de semi-conducteurs et la fabrication de dispositifs optoélectroniques.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure d'indium (In2Se3)

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Permet le dépôt de couches minces de haute qualité pour les composants électroniques avancés.
- Dispositifs optoélectroniques : Utilisés dans la production de photodétecteurs, de DEL et de cellules solaires pour une manipulation efficace de la lumière.
- Dépôt de couches minces : Idéal pour les techniques de pulvérisation dans les applications industrielles et de recherche nécessitant une épaisseur et une uniformité précises du film.
- Laboratoires de recherche : Fournit un matériau fiable pour les montages expérimentaux et les études de nouveaux matériaux.

Emballage de cibles de pulvérisation de séléniure d'indium (In2Se3)

Notre cible de pulvérisation de séléniure d'indium est soigneusement emballée dans des conteneurs spécialisés, à l'épreuve de la contamination, conçus pour maintenir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de logistique et de manutention.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation de séléniure d'indium ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les applications optoélectroniques et les processus de dépôt de couches minces dans la recherche et l'industrie.

Q : Comment la pureté élevée de ≥99% profite-t-elle aux processus de pulvérisation ?
R : La pureté élevée garantit une contamination minimale et une qualité de film supérieure, ce qui améliore les performances et la fiabilité des couches déposées.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de conception et d'application.

Q : Quelles méthodes de pulvérisation peuvent être utilisées avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec diverses techniques de pulvérisation, y compris les procédés de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Comment les cibles de pulvérisation doivent-elles être stockées pour conserver leur qualité ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement contrôlé et exempt de contamination, idéalement dans un emballage sous vide ou de protection pour éviter l'oxydation et les dommages.