ST0302 Cible de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3)

Description de la cible de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3)

La cible de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3) est conçue pour la précision dans les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible assure un dépôt uniforme et des performances fiables dans les systèmes de pulvérisation RF. Sa conception de cible, disponible à la fois sous forme de disque standard et de formes personnalisables, la rend adaptée à diverses applications industrielles, notamment la fabrication de semi-conducteurs, la thermoélectricité et la recherche sur les matériaux quantiques. Avec un point de fusion de 710℃ et une densité de 6,82 g/cm³, la cible garantit des performances et une durabilité constantes, même dans des conditions de traitement exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des revêtements uniformes de haute qualité dans les dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques.
- Dispositifs thermoélectriques : Utilisés pour fabriquer des dispositifs qui convertissent les différences de température en énergie électrique.
- Recherche sur les matériaux quantiques : Soutient les applications expérimentales en science des matériaux avancés et en nanotechnologie.
- Ingénierie des surfaces : Permet le dépôt précis de revêtements fonctionnels et de couches protectrices dans divers outils industriels.

Cibles de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3)

Nos cibles de pulvérisation au séléniure de bismuth sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur qualité. Elles sont protégées par des solutions d'emballage antistatiques et résistantes à l'humidité, et sont généralement expédiées dans des conteneurs scellés sous vide. Les configurations d'emballage peuvent être adaptées pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de séléniure de bismuth (Bi2Se3) ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les dispositifs thermoélectriques, la recherche sur les matériaux quantiques et l'ingénierie des surfaces.

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour cette cible ?
R : La pulvérisation RF est recommandée pour obtenir des performances optimales avec cette cible.

Q : Quel est le niveau de pureté de cette cible de pulvérisation ?
R : La cible est produite avec une pureté de ≥99%, ce qui garantit une grande cohérence dans les processus de dépôt.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques.

Q : Quels sont les avantages des liaisons indium et élastomère pour le processus de pulvérisation ?
R : Ces liaisons améliorent la stabilité thermique et mécanique pendant la pulvérisation, garantissant une dissipation efficace de la chaleur et des performances constantes tout au long du processus.