ST0301 Cible de pulvérisation cathodique en borure de zirconium (ZrB₂)

Cible de pulvérisation de borure de zirconium (ZrB₂) Description

La cible de pulvérisation de borure de zirconium (ZrB₂) est un matériau de haute performance spécialement conçu pour les processus avancés de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une précision raffinée, elle offre une excellente stabilité à haute température et de faibles propriétés de dilatation thermique, ce qui la rend idéale pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs et de l'optique. La cible offre une performance de pulvérisation uniforme, garantissant un dépôt de film constant et une fiabilité accrue des dispositifs. En outre, ses propriétés mécaniques robustes permettent un fonctionnement fiable dans des conditions extrêmes, répondant ainsi aux exigences rigoureuses des applications industrielles modernes.

Applications des cibles de pulvérisation au borure de zirconium (ZrB₂)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les applications de revêtement des semi-conducteurs, de la microélectronique et de l'optique.
- Revêtements de surface : Utilisé pour produire des revêtements résistants à l'usure et de haute qualité pour les composants de précision.
- Céramiques avancées : Employées dans des environnements à haute température nécessitant des matériaux robustes et stables.
- Recherche et développement : Parfait pour les recherches en science des matériaux et les processus expérimentaux de pulvérisation.
- Microélectronique : Convient aux processus de dépôt dans la fabrication de circuits intégrés.

Emballage des cibles de pulvérisation du borure de zirconium (ZrB₂)

Nos cibles de pulvérisation au borure de zirconium (ZrB₂) sont soigneusement emballées pour préserver leur qualité pendant le stockage et le transport. Chaque cible est scellée dans un emballage sous atmosphère inerte pour éviter l'oxydation et la contamination. Des options d'emballage personnalisables sont disponibles pour répondre aux exigences des envois individuels et en vrac.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation du borure de zirconium dans les cibles de pulvérisation ?
R : Le borure de zirconium offre une grande stabilité thermique, une résistance mécanique robuste et des performances de pulvérisation constantes, ce qui le rend idéal pour les processus avancés de dépôt de couches minces.

Q : La cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée en termes de taille ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation au borure de zirconium sont disponibles dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Quels sont les avantages du point de fusion élevé pour le processus de pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé garantit la stabilité dimensionnelle et la durée de vie prolongée de la cible lors des applications de pulvérisation à haute énergie, ce qui contribue à une qualité de film constante.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation au borure de zirconium ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'optique, la microélectronique et les céramiques avancées utilisent fréquemment des cibles de pulvérisation au borure de zirconium en raison de leurs performances et de leur fiabilité supérieures.