ST0298 Cible de pulvérisation de borure de nickel (Ni2B)

Cible de pulvérisation de borure de nickel (Ni2B) Description

La cible de pulvérisation de borure de nickel (Ni₂B) associe une pureté supérieure à d'excellentes propriétés matérielles pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de dépôt de couches minces. Fabriquée dans des conditions contrôlées, cette cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à vos besoins spécifiques. Son point de fusion élevé et sa densité optimale la rendent idéale pour les processus à haute température et garantissent une qualité de film fiable.

Applications des cibles de pulvérisation de borure de nickel (Ni2B)

- Dépôt de couches minces : Fournit un revêtement uniforme pour les composants microélectroniques et optiques.
- Fabrication microélectronique : Idéal pour déposer des films de qualité constante dans les dispositifs à semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Améliore les revêtements réfléchissants et antireflets avec des propriétés matérielles stables.
- Ingénierie des surfaces : Utilisé dans les processus de pulvérisation cathodique pour améliorer la durabilité et les performances des surfaces.

Emballage des cibles de pulvérisation au borure de nickel (Ni2B)

Nos cibles de pulvérisation au borure de nickel (Ni2B) sont emballées sous un contrôle de qualité strict afin de garantir qu'elles arrivent en parfait état. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients et maintenir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de borure de nickel (Ni2B) ?
R : Elle est largement utilisée dans le dépôt de couches minces pour la microélectronique, les revêtements optiques et l'ingénierie de surface, grâce à sa grande pureté et à la stabilité de ses propriétés matérielles.

Q : Comment la pureté de ≥99% profite-t-elle au processus de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée garantit une contamination minimale pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir des films d'une consistance, d'une performance et d'une fiabilité supérieures.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation au borure de nickel (Ni2B) sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de conception et d'application.

Q : Comment la plage de points de fusion de 1100-1200℃ affecte-t-elle ses performances ?
R : Le point de fusion élevé garantit la stabilité pendant les processus de pulvérisation à haute température, ce qui permet d'obtenir des performances fiables et une longue durée de vie de la cible.

Q : Quelles industries peuvent bénéficier de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la microélectronique, l'optique, la fabrication de semi-conducteurs et les revêtements de surface avancés bénéficieront des performances et de la qualité supérieures de nos cibles de pulvérisation au borure de nickel (Ni2B).