ST0281 Cible de pulvérisation de sulfure de plomb (PbS)

Description de la cible de pulvérisation de sulfure de plomb (PbS)

La cible de pulvérisation de sulfure de plomb (PbS) est conçue pour des applications de pulvérisation de précision à haute performance. Fabriquée avec du PbS de haute pureté (≥99%) et un savoir-faire d'expert, elle garantit des performances de pulvérisation constantes pour le dépôt de couches minces. Ses formes personnalisables (disques ou sur mesure) offrent une polyvalence pour l'intégration dans divers processus industriels. Compatible avec les systèmes de pulvérisation RF, RF-R et DC, cette cible offre flexibilité et efficacité énergétique pour des résultats optimaux. Idéale pour les semi-conducteurs, l'optoélectronique et les applications de revêtement avancées, elle permet une fabrication fiable et une recherche innovante.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure de plomb (PbS)

- Dépôt de couches minces : Essentiel pour la fabrication des semi-conducteurs et de l'optoélectronique.
- Revêtements de surface : Utilisés pour produire des revêtements optiques et protecteurs de haute qualité.
- Fabrication microélectronique : Elle fait partie intégrante de la production de composants électroniques à micro-échelle.
- Recherche et développement : Matériau fiable pour la pulvérisation expérimentale et les études sur les matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation du sulfure de plomb (PbS)

Nos cibles de pulvérisation au sulfure de plomb (PbS) sont conçues avec précision et manipulées avec le plus grand soin afin de préserver leur qualité. Elles sont emballées à l'aide de matériaux antistatiques et résistants à l'humidité afin de préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport. Des options de taille personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les procédés de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Quel est le niveau de pureté du PbS utilisé dans la cible de pulvérisation ?
R : Le PbS utilisé dans notre cible a une pureté de ≥99%.

Q : Des formes personnalisées sont-elles disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, des options sur mesure sont disponibles sur demande.

Q : Quelles sont les applications industrielles qui bénéficient le plus de ce produit ?
R : Ce produit est largement utilisé pour le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de produits microélectroniques et les applications de revêtement avancées.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être manipulée et stockée ?
R : La cible doit être manipulée avec des précautions antistatiques et stockée dans un environnement à l'abri de l'humidité pour maintenir une qualité optimale.