ST0280 Cible de pulvérisation de sulfure de fer (FeS)

Description de la cible de pulvérisation de sulfure de fer (FeS)

La cible de pulvérisation de sulfure de fer (FeS) est conçue avec précision pour les processus avancés de dépôt par pulvérisation. Elle est fabriquée avec une grande pureté et des formes personnalisables. Fabriquée avec une pureté élevée et des formes personnalisables, elle garantit un dépôt cohérent et uniforme, ce qui en fait un choix idéal pour les semi-conducteurs, les écrans et les applications de revêtement. Sa conception robuste et son contrôle de la qualité la rendent adaptée à la production industrielle et aux environnements de recherche, offrant des performances fiables dans des conditions exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure de fer (FeS)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de circuits intégrés.
- Technologies d'affichage : Utilisées dans la fabrication de TFT, d'écrans OLED et d'écrans plats.
- Revêtements protecteurs et fonctionnels : Appliqués pour les traitements de surface sur divers substrats afin d'améliorer la résistance à l'usure et la protection contre la corrosion.
- Recherche et développement : Utilisé dans les installations expérimentales pour les projets de science des matériaux et de nanotechnologie.

Emballage de cibles de pulvérisation de sulfure de fer (FeS)

Notre cible de pulvérisation de sulfure de fer (FeS) est emballée dans des conditions contrôlées afin de garantir l'intégrité du produit.
Emballage sous vide : 5 kg par sac, avec des options d'emballage personnalisées disponibles en fonction des exigences de la commande.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi servent les cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour former des couches minces sur des substrats destinés à l'électronique, aux revêtements et aux applications d'affichage.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation affecte-t-elle ses performances ?
R : Des niveaux de pureté plus élevés garantissent un dépôt cohérent, réduisent les risques de contamination et améliorent la qualité globale du film déposé.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, nos cibles de pulvérisation peuvent être personnalisées pour répondre à des exigences spécifiques en matière de processus ou d'équipement.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cibles de pulvérisation de sulfure de fer (FeS) ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la technologie des écrans, les applications de revêtement et la recherche sur les matériaux bénéficient de l'utilisation de nos cibles de pulvérisation haute performance.

Q : Comment la cible de pulvérisation de sulfure de fer (FeS) est-elle emballée pour l'expédition ?
R : La cible est scellée sous vide dans un emballage contrôlé, généralement dans des sacs de 5 kg, avec des options d'emballage sur mesure plus grandes si nécessaire.