ST0279 Cible de pulvérisation du sulfure d'indium (In2S3)

Cible de pulvérisation de sulfure d'indium (In2S3) Description

La cible de pulvérisation de sulfure d'indium (In2S₃) est conçue pour des applications de haute précision dans le dépôt de couches minces et la fabrication électronique avancée. Utilisant des matériaux de qualité supérieure et des procédés de fabrication de pointe, cette cible garantit des performances constantes, une grande uniformité du film et une fiabilité exceptionnelle dans diverses méthodes de pulvérisation, notamment RF, RF-R et DC. Son point de fusion élevé et sa densité optimisée la rendent adaptée aux environnements industriels exigeants, tandis que les tailles personnalisables répondent aux diverses exigences des applications.

Applications des cibles de pulvérisation du sulfure d'indium (In2S3)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des films de haute qualité dans les appareils électroniques et photovoltaïques.
- Fabrication de semi-conducteurs : Offre un dépôt précis de matériaux pour la fabrication de dispositifs de pointe.
- Cellules photovoltaïques : Fournit un dépôt uniforme essentiel à l'efficacité des cellules solaires.
- Recherche scientifique : Sert de matériau fiable pour les montages expérimentaux dans la recherche sur les matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation du sulfure d'indium (In2S3)

Nos cibles de pulvérisation In2S₃ sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur pureté et l'intégrité de leurs performances. En règle générale, les cibles sont scellées sous vide et solidement emballées pour éviter toute contamination et tout dommage mécanique pendant le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec la cible de pulvérisation de sulfure d'indium (In2S₃) ?
R : La cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui la rend polyvalente pour toute une série d'applications.

Q : Comment maintenez-vous un niveau de pureté élevé (≥99%) dans la cible de pulvérisation ?
R : Nos processus rigoureux de contrôle de la qualité et nos techniques de fabrication avancées garantissent que chaque lot atteint et maintient la norme de pureté élevée.

Q : Les cibles de pulvérisation peuvent-elles être produites dans des tailles personnalisées ?
R : Oui, en plus de nos formes de disques standard, nous sommes heureux de fournir des tailles personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de votre projet.

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation de sulfure d'indium (In2S₃) ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs, la production de cellules photovoltaïques et la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Comment le point de fusion élevé contribue-t-il aux performances de la cible pendant la pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé (1010℃) assure une excellente stabilité thermique, ce qui permet à la cible de fonctionner de manière fiable même dans des conditions de pulvérisation à haute température.