ST0278 Cible de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS)

Description de la cible de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS)

La cible de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS) est produite avec du GeS de haute pureté (≥99%) et une ingénierie de précision pour répondre aux exigences rigoureuses des processus modernes de dépôt de couches minces. Conçue pour les industries des semi-conducteurs et de l'électronique, cette cible de pulvérisation offre des performances constantes avec un point de fusion de 940℃ et une densité de 4,08 g/cm³. Ses formes personnalisables, disponibles sous forme de disques ou sur mesure, assurent une compatibilité avec une large gamme de systèmes de dépôt. Ce produit est idéal pour les applications nécessitant une production de film fiable et uniforme dans des conditions de haute température.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS)

- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour la fabrication de circuits intégrés et de composants électroniques avec des caractéristiques de film mince précises.
- Dispositifs photovoltaïques : Utilisées dans le processus de dépôt pour produire des cellules solaires à haut rendement.
- Dépôt de couches minces : Permet d'obtenir une excellente uniformité des revêtements pour les capteurs, les dispositifs optoélectroniques et les couches de protection.
- Ingénierie des surfaces : Permet des modifications de surface avancées pour améliorer la résistance à l'usure et les revêtements fonctionnels.
- Recherche et développement : Soutient la production expérimentale et pilote dans les laboratoires de science des matériaux.

Emballage de cibles de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS)

Nos cibles de pulvérisation de sulfure de germanium (GeS) sont emballées avec soin pour garantir qu'elles conservent leur intégrité pendant le transport et le stockage.
- Emballage standard : Disques scellés sous vide ou emballage personnalisé en fonction des besoins du client.
- Disponibles en : Dimensions personnalisées selon les spécifications du client afin de garantir une compatibilité optimale avec l'équipement de dépôt.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de sulfure de germanium ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de dispositifs photovoltaïques et les applications avancées de dépôt de couches minces dans l'électronique et l'ingénierie de surface.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) du GeS affecte-t-elle ses performances ?
R : La pureté élevée garantit un dépôt de film cohérent, minimise la contamination pendant le traitement et contribue à l'amélioration des performances du matériau dans les applications critiques.

Q : Puis-je demander une forme personnalisée pour la cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disques ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre aux exigences d'un système de dépôt spécifique.

Q : Quels sont les facteurs à prendre en compte lors de l'intégration de la cible de pulvérisation GeS dans un système de dépôt ?
R : Les principaux facteurs à prendre en compte sont le point de fusion de la cible, sa densité et la compatibilité de la forme de la cible avec la conception de l'équipement de dépôt.

Q : La cible de pulvérisation GeS doit-elle faire l'objet d'une manipulation ou d'un stockage particuliers ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre, sec et à température contrôlée. Un emballage scellé sous vide permet de conserver sa grande pureté et d'éviter toute contamination.