ST0271 Cible de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3)

Description de la cible de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3)

La cible de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3) est conçue pour les applications de pulvérisation à haute performance. Fabriquée à partir de Sb₂S₃ de grande pureté, cette cible garantit des performances constantes dans le dépôt de couches minces pour toute une série d'applications industrielles et de recherche. Ses propriétés physiques robustes et ses dimensions personnalisables en font un excellent choix pour les processus de fabrication de semi-conducteurs et d'optoélectronique avancés.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour la production de films minces utilisés dans les dispositifs électroniques et optoélectroniques.
- Cellules photovoltaïques : Utilisées dans la production de cellules solaires pour une absorption et une conversion efficaces de la lumière.
- Revêtements optiques : Appliqués dans le dépôt de revêtements qui améliorent les propriétés optiques et la durabilité.
- Recherche et développement : Matériau fiable pour les montages expérimentaux dans les laboratoires de science des matériaux.
- Traitements de surface : Utilisé dans les processus de modification de la surface pour améliorer les caractéristiques électriques et physiques.

Emballage des cibles de pulvérisation du sulfure d'antimoine (Sb2S3)

Notre cible de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3) est emballée avec le plus grand soin afin de préserver son intégrité et sa pureté pendant le transport et le stockage. Des options d'emballage sont disponibles en fonction des besoins du client, garantissant que le produit reste dans des conditions optimales jusqu'à son utilisation.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les applications les mieux adaptées à la cible de pulvérisation de sulfure d'antimoine (Sb2S3) ?
R1 : Elle est idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, les revêtements optiques, la fabrication de cellules photovoltaïques et divers projets de recherche et de développement.

Q2 : Quelles méthodes de pulvérisation peuvent être utilisées avec cette cible ?
R2 : La cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui offre une grande flexibilité pour divers systèmes de dépôt.

Q3 : Comment peut-on obtenir des tailles personnalisées pour cette cible de pulvérisation ?
R3 : Nous proposons des formes et des tailles personnalisées adaptées aux besoins de votre application. Veuillez contacter notre équipe technique pour discuter de vos besoins spécifiques.

Q4 : Quelles sont les mesures qui garantissent la pureté élevée de la cible (≥99%) ?
A4 : Notre processus de production implique un contrôle de qualité strict et des matières premières de haute pureté pour garantir que chaque cible atteint ou dépasse la norme de pureté ≥99%.

Q5 : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée pour conserver sa qualité ?
R5 : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre et sec, de préférence dans son emballage d'origine ou dans des conditions contrôlées pour éviter la contamination et la dégradation.