ST0268 Cible de pulvérisation du siliciure de titane (TiSi2)

Cible de pulvérisation du siliciure de titane (TiSi2) Description

La cible de pulvérisation de siliciure de titane (TiSi2) est conçue pour répondre aux exigences des processus de pulvérisation modernes. Fabriquée avec précision, cette cible offre une uniformité exceptionnelle, des performances de pulvérisation fiables et une stabilité thermique supérieure. Elle est idéale pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, offrant une excellente conductivité et un dépôt de film de haute qualité pour des applications de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation du siliciure de titane (TiSi2)

- Traitement des semi-conducteurs : Essentiel pour la fabrication de circuits intégrés et le dépôt de couches minces.
- Dépôt par pulvérisation : Utilisé pour obtenir des revêtements de haute qualité dans divers composants électroniques.
- Applications de revêtement : Idéales pour les revêtements résistants à l'usure et fonctionnels en microélectronique.
- Recherche et développement : Parfait pour les méthodes expérimentales de pulvérisation et les études de matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation du siliciure de titane (TiSi2)

Nos cibles de pulvérisation de siliciure de titane sont emballées de manière sécurisée afin de préserver l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Les options standard comprennent des solutions d'emballage personnalisées, garantissant que chaque cible arrive dans un état impeccable et prête à être utilisée immédiatement.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications idéales pour la cible de pulvérisation de siliciure de titane ?
R : Elle est principalement utilisée dans le traitement des semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, les applications de revêtement et les projets de recherche avancée.

Q : Quelles méthodes de pulvérisation peuvent être utilisées avec cette cible ?
R : La cible est compatible avec les procédés de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui offre une grande souplesse pour diverses techniques de dépôt.

Q : Comment la pureté du siliciure de titane est-elle maintenue ?
R : Notre processus de fabrication respecte des normes rigoureuses de contrôle de la qualité, garantissant que la cible atteint ou dépasse une pureté de ≥99%.

Q : La taille de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible de pulvérisation du siliciure de titane est disponible dans des tailles personnalisées pour répondre à des besoins de production spécifiques.

Q : Quels sont les avantages du siliciure de titane dans les applications de pulvérisation ?
R : Le siliciure de titane offre une excellente stabilité thermique, une conductivité fiable et des performances constantes, ce qui en fait un matériau de choix pour les processus de dépôt de haute précision.