ST0266 Cible de pulvérisation du siliciure de nickel (NiSi2)

Cible de pulvérisation de siliciure de nickel (NiSi2) Description

La cible de pulvérisation de siliciure de nickel (NiSi2) est conçue pour les techniques de dépôt avancées dans les applications de microélectronique et de science des matériaux. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible est conçue avec précision pour garantir des performances fiables dans les processus de pulvérisation. Son point de fusion élevé de 990℃ associé à une densité de 4,85 g/cm³ en fait un choix optimal pour la production de couches minces uniformes et de revêtements avancés. Développé par Stanford Advanced Materials, ce produit est disponible dans des formes personnalisables, notamment des disques standard ou des configurations sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Applications des cibles de pulvérisation du siliciure de nickel (NiSi2)

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Essentiel pour créer des couches de siliciure de haute qualité dans les circuits intégrés.
- Ingénierie de surface : Idéal pour déposer des revêtements conducteurs et protecteurs.
- Microélectronique : Permet la formation de caractéristiques fines et de contacts de haute performance.
- Recherche et développement : Fournit un matériau fiable pour les études innovantes de pulvérisation et de dépôt.

Emballage de cibles de pulvérisation de siliciure de nickel (NiSi2)

Notre cible de pulvérisation de siliciure de nickel (NiSi2) est emballée avec le plus grand soin afin de préserver son intégrité pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles, les produits étant généralement scellés dans des conditions contrôlées afin de garantir leur pureté et leur performance.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale d'une cible de pulvérisation de siliciure de nickel ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et dans les applications de revêtement de surface, garantissant un dépôt de film de haute qualité.

Q : Quels sont les avantages d'un niveau de pureté de ≥99% pour cette cible de pulvérisation ?
R : La pureté élevée minimise les impuretés, ce qui permet d'obtenir des performances de pulvérisation constantes et des films minces de qualité supérieure.

Q : La cible de pulvérisation de siliciure de nickel peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, elle est disponible dans des tailles et des formes personnalisées, y compris des disques standard ou des configurations sur mesure.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est largement utilisée dans les secteurs des semi-conducteurs, de la microélectronique et de la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Comment le produit doit-il être stocké pour conserver sa qualité ?
R : Il doit être stocké dans des conditions contrôlées, de préférence dans un emballage scellé sous vide, afin de le protéger de la contamination et de maintenir ses performances.