ST0264 Cible de pulvérisation du siliciure de molybdène (MoSi2)

Cible de pulvérisation de siliciure de molybdène (MoSi2) Description

La cible de pulvérisation de siliciure de molybdène (MoSi2) est développée à l'aide de techniques avancées de traitement des matériaux afin d'offrir un produit garantissant une uniformité et des performances élevées dans les processus de pulvérisation. Son point de fusion élevé et son excellente densité en font un candidat idéal pour les applications exigeantes de la microélectronique, des cellules solaires et d'autres technologies de revêtement de précision. Sa capacité de pulvérisation RF garantit une érosion efficace de la cible et un dépôt cohérent de couches minces, ce qui permet d'obtenir une qualité de film et des performances de dispositifs supérieures.

Applications des cibles de pulvérisation du siliciure de molybdène (MoSi2)

- Dispositifs semi-conducteurs : Utilisées dans le dépôt de couches minces pour la microélectronique et les circuits intégrés.
- Cellules solaires : Fournit des revêtements durables et stables pour améliorer l'absorption et l'efficacité de la lumière.
- Microfabrication : Idéal pour créer des couches de film précises et uniformes dans les applications MEMS et les capteurs.
- Revêtements de surface : Employés dans des processus de revêtement avancés pour conférer une résistance à l'usure et une stabilité thermique à divers substrats.

Siliciure de molybdène (MoSi2) Emballage de cibles de pulvérisation

Notre cible de pulvérisation au siliciure de molybdène (MoSi2) est emballée avec le plus grand soin afin de préserver son intégrité et ses performances pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients. L'emballage standard comprend des conteneurs scellés sous vide conçus pour protéger contre la contamination et les contraintes mécaniques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour la cible MoSi2 ?
R : La pulvérisation RF est recommandée pour une performance de dépôt optimale avec la cible MoSi2.

Q : Quelles sont les formes disponibles pour la cible de pulvérisation MoSi2 ?
R : La cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux besoins d'une application spécifique.

Q : Quel est le niveau de pureté garanti pour cette cible de pulvérisation ?
R : La cible de pulvérisation MoSi2 a une pureté garantie de ≥99%.

Q : Quels sont les avantages du point de fusion élevé pour le processus de pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé (2030℃) assure une excellente stabilité thermique et permet une pulvérisation efficace, même dans des conditions de haute énergie.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée avant utilisation ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre et sec, avec un emballage approprié (tel que des conteneurs sous vide), afin d'éviter toute contamination et de garantir des performances optimales.