ST0259 Cible de pulvérisation de fluorure de zirconium (ZrF4)

Description de la cible de pulvérisation de fluorure de zirconium (ZrF4)

La cible de pulvérisation de fluorure de zirconium (ZrF4) est conçue pour offrir des performances élevées et des résultats constants dans les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée selon des contrôles de qualité rigoureux pour atteindre une pureté de ≥99% et proposée dans des formes personnalisées telles que des disques, cette cible est idéale pour divers processus de revêtement et de dépôt de couches minces. Ses propriétés physiques stables, notamment un point de fusion de 912℃ et une densité de 4,43 g/cm³, garantissent des performances fiables dans des environnements industriels exigeants.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de zirconium (ZrF4)

- Dépôt de couches minces : Essentiel pour les revêtements de précision dans la production de semi-conducteurs et de panneaux d'affichage.
- Revêtements optiques : Utilisés dans la fabrication de lentilles, de miroirs et d'autres composants optiques.
- Composants électroniques : Fournit des films de haute qualité pour les condensateurs, les capteurs et d'autres composants électroniques.
- Revêtements industriels : Utilisés dans des processus qui exigent une grande durabilité et une grande précision dans le dépôt des revêtements.

Emballage de cibles de pulvérisation de fluorure de zirconium (ZrF4)

Nos cibles de pulvérisation de fluorure de zirconium sont méticuleusement emballées afin de préserver leur état impeccable et d'éviter toute contamination pendant le transport. Les cibles sont fabriquées sur mesure et emballées de manière sécurisée afin de garantir qu'elles arrivent dans des conditions optimales pour être utilisées dans des applications de pulvérisation de précision.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert le fluorure de zirconium (ZrF4) dans les applications de pulvérisation cathodique ?
R : Il est utilisé pour déposer des couches minces et des revêtements essentiels à la fabrication de composants optiques et électroniques.

Q : Quels sont les principaux avantages de l'utilisation d'une cible de pulvérisation en fluorure de zirconium ?
R : Sa pureté ≥99%, son point de fusion élevé de 912℃ et sa densité stable de 4,43 g/cm³ garantissent d'excellentes performances et une grande fiabilité dans les environnements industriels exigeants.

Q : Les formes des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de fluorure de zirconium peuvent être personnalisées pour répondre à des exigences spécifiques, y compris des formes de disque ou d'autres formes.

Q : Comment la pureté élevée de la cible de pulvérisation affecte-t-elle ses performances ?
R : Une pureté élevée de ≥99% minimise la contamination, garantissant un dépôt de film constant et des performances supérieures dans les processus de fabrication avancés.

Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour les cibles de pulvérisation avant utilisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement propre et sec, à température contrôlée, afin de préserver leur qualité et d'éviter toute contamination.