ST0255 Cible de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3)

Cible de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3) Description

La cible de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3) est un matériau de haute performance développé pour le dépôt de couches minces de précision. Fabriquée à l'aide de techniques de traitement avancées, elle affiche une pureté de ≥99% et offre des formes personnalisables pour répondre à diverses exigences industrielles. Son excellente stabilité thermique et son point de fusion élevé lui permettent d'être utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres applications de haute technologie, garantissant à la fois la durabilité et des performances constantes dans des conditions rigoureuses.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3)

- Industrie des semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans les circuits intégrés et autres composants de semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Utilisés dans la production de dispositifs optiques et de lentilles de haute qualité.
- Cellules solaires : Améliore l'efficacité des cellules photovoltaïques grâce au dépôt précis de couches minces.
- Technologie d'affichage : Essentielle pour la fabrication de panneaux d'affichage de pointe.
- Recherche et développement : Utile dans les installations expérimentales où des cibles de pulvérisation de haute pureté sont nécessaires.

Emballage des cibles de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3)

Notre cible de pulvérisation au fluorure de titane (TiF3) est soigneusement emballée pour préserver sa qualité et sa pureté. Elle est livrée dans un emballage scellé sous vide pour la protéger contre la contamination et garantir la stabilité du produit pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert la cible de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3) ?
R : Elle est principalement utilisée dans les processus de pulvérisation pour le dépôt de couches minces dans les industries des semi-conducteurs, de l'optique et de l'affichage.

Q : Comment la cible de pulvérisation en fluorure de titane (TiF3) est-elle fabriquée ?
R : Elle est produite à l'aide de techniques de fabrication avancées qui garantissent une pureté de ≥99% et une stabilité thermique robuste.

Q : La taille de la cible de pulvérisation de fluorure de titane (TiF3) peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, les tailles disponibles sont entièrement personnalisables pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les principales propriétés thermiques de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle présente un point de fusion élevé de 1130℃ et une densité de 3,13 g/cm³, ce qui la rend idéale pour les applications à haute température.

Q : Existe-t-il des procédures de manipulation ou de sécurité spécifiques pour ce produit ?
R : Les protocoles de sécurité standard doivent être suivis, y compris l'utilisation d'un équipement de protection individuelle approprié et le respect des directives relatives aux données de sécurité des matériaux.