ST0249 Cible de pulvérisation de fluorure de sodium et d'aluminium (Na5Al3F14)

Description de la cible de pulvérisation de fluorure de sodium et d'aluminium (Na5Al3F14)

La cible de pulvérisation de fluorure de sodium et d'aluminium (Na5Al3F14) est conçue pour des applications de pulvérisation avancées, offrant des performances élevées et une stabilité exceptionnelle. Avec une composition méticuleusement contrôlée pour garantir une pureté ≥99%, elle offre des performances optimales pour le dépôt de couches minces uniformes dans la fabrication de produits électroniques et de semi-conducteurs. Ses formes personnalisables, disponibles sous forme de disques standard ou fabriqués sur commande, répondent aux exigences d'applications spécifiques tout en conservant d'excellentes propriétés physiques dans des conditions exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de sodium et d'aluminium (Na5Al3F14)

- Fabrication électronique : Idéal pour former des films minces uniformes dans les dispositifs à semi-conducteurs et les panneaux d'affichage.
- Revêtement de surface : Utilisé dans les processus de pulvérisation pour les revêtements protecteurs et fonctionnels.
- Dépôt sous vide : Efficace pour produire des revêtements de précision de haute qualité dans des environnements sous vide.
- Recherche et développement : Convient aux études sur les matériaux avancés et aux techniques de revêtement innovantes.

Emballage des cibles de pulvérisation du fluorure de sodium et d'aluminium (Na5Al3F14)

Nos cibles de pulvérisation de fluorure de sodium et d'aluminium sont soigneusement emballées afin de préserver leur qualité et leur intégrité pendant le stockage et le transport. Les options d'emballage comprennent des disques scellés sous vide, et des emballages personnalisés sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quel est l'avantage d'une pureté de ≥99% pour cette cible de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée garantit un dépôt de film régulier, une contamination minimale et des performances fiables tout au long du processus de pulvérisation.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques standard ou peut être personnalisée pour répondre à des besoins spécifiques en matière de conception et d'application.

Q : Quelles sont les industries qui conviennent le mieux à cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est idéale pour la fabrication électronique, la production de dispositifs à semi-conducteurs, la fabrication de panneaux d'affichage et la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Quel est l'impact du point de fusion (~1020℃) sur les performances de la cible ?
R : Le point de fusion élevé offre une excellente stabilité thermique, ce qui rend la cible adaptée aux processus fonctionnant à des températures élevées.

Q : Quelles sont les options d'emballage proposées pour ce produit ?
R : La cible de pulvérisation est livrée dans un emballage scellé sous vide et sa taille peut être personnalisée en fonction des besoins du client.