ST0246 Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂)

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂) Description

La cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂) est un matériau de haute performance conçu pour le dépôt de couches minces par pulvérisation RF. Fabriquée avec précision et un engagement de qualité, elle offre une excellente stabilité et une grande fiabilité dans les applications de revêtement. Sa grande pureté garantit un comportement de pulvérisation cohérent, ce qui en fait un choix idéal pour les industries exigeant des propriétés optiques et électroniques supérieures.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂)

- Revêtements optiques : Largement utilisé dans la fabrication de revêtements antireflets et protecteurs pour les lentilles et les composants optiques.
- Dispositifs semi-conducteurs : Fournit un dépôt fiable de couches minces pour les applications microélectroniques et photovoltaïques.
- Microélectronique : Employée dans la production de composants de circuits et de capteurs de haute précision.
- Ingénierie des surfaces : Convient pour améliorer la résistance à l'usure et les performances de diverses pièces industrielles.

Emballage de cibles de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂)

Notre cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF₂) est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa grande pureté et ses caractéristiques de performance. Nous proposons des options d'emballage sous vide et des solutions d'emballage personnalisées pour répondre aux diverses exigences des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de fluorure de magnésium ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les revêtements optiques, les dispositifs à semi-conducteurs, la microélectronique et l'ingénierie des surfaces industrielles en raison de ses excellentes propriétés optiques et électroniques.

Q : Quels sont les avantages de la pulvérisation RF par rapport à la pulvérisation DC pour le processus de dépôt ?
R : La pulvérisation RF permet de déposer efficacement des matériaux isolants et diélectriques en fournissant un environnement plasma stable, ce qui permet d'obtenir des couches minces plus uniformes et de meilleure qualité.

Q : Quelles sont les tailles et les formes disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Le produit est disponible sous forme de disque standard et des options sur mesure sont proposées pour répondre aux exigences de projets spécifiques.

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible de pulvérisation de fluorure de magnésium ?
R : La cible présente un niveau de pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances et une cohérence optimales lors des applications de pulvérisation.

Q : Pourquoi le fluorure de magnésium est-il choisi comme cible de pulvérisation ?
R : Le fluorure de magnésium est apprécié pour son excellente transparence optique, sa stabilité chimique et sa capacité à former des films minces uniformes et de haute qualité, ce qui le rend idéal pour les applications de revêtement avancées.