ST0241 Cible de pulvérisation au fluorure d'erbium (ErF3)

Cible de pulvérisation au fluorure d'erbium (ErF3) Description

La cible de pulvérisation au fluorure d'erbium (ErF3) est fabriquée à partir d'ErF₃ de grande pureté pour garantir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation. Elle est spécialement conçue pour le dépôt précis de couches minces dans les processus avancés de revêtement des semi-conducteurs, de l'optoélectronique et de l'optique. Grâce à sa stabilité chimique unique et à ses propriétés physiques optimisées, cette cible garantit une qualité et une fiabilité constantes des films, même dans des conditions de traitement exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure d'erbium (ErF3)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de films de haute qualité utilisés dans les semi-conducteurs et les dispositifs microélectroniques.
- Optoélectronique : Parfait pour la production de revêtements optiques et de dispositifs photoniques pour lesquels des propriétés matérielles précises sont essentielles.
- Revêtements avancés : Utilisé pour le dépôt de revêtements protecteurs et fonctionnels sur divers substrats.
- Recherche et développement : Convient aux installations expérimentales et de développement nécessitant des cibles de pulvérisation de haute pureté.

Emballage des cibles de pulvérisation au fluorure d'erbium (ErF3)

Nos cibles de pulvérisation au fluorure d'erbium sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur qualité. Les options d'emballage sont personnalisées en fonction des spécifications du client, afin de garantir la protection pendant le stockage et le transport. L'emballage standard assure un confinement sûr et une exposition minimale aux contaminants de l'environnement.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau qui est bombardé avec des ions dans un processus de pulvérisation pour éjecter des atomes, qui se déposent ensuite sous la forme d'un film mince sur des substrats.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation au fluorure d'erbium sont-elles le plus souvent utilisées ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique, les revêtements en couches minces et les applications de recherche avancée.

Q : Pourquoi une pureté élevée (≥99%) est-elle importante pour les cibles de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée minimise la contamination pendant le processus de pulvérisation et garantit le dépôt de films d'une uniformité et d'une performance excellentes.

Q : La cible de pulvérisation en fluorure d'erbium peut-elle être fabriquée dans des tailles ou des formes personnalisées ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disques ou de tailles personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les conditions de manipulation et de stockage recommandées pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Elles doivent être stockées dans un environnement propre, sec et à température contrôlée. Des protocoles de manipulation appropriés doivent être suivis pour éviter la contamination de la surface et préserver l'intégrité de la cible.