ST0238 Cible de pulvérisation de fluorure de césium (CsF)

Cible de pulvérisation de fluorure de césium (CsF) Description

La cible de pulvérisation de fluorure de césium (CsF) est un matériau de haute performance conçu pour les processus de dépôt de couches minces de précision. Développée selon des normes industrielles strictes, cette cible offre une pureté (≥99%) et une uniformité exceptionnelles, garantissant un comportement de pulvérisation optimal dans les applications de revêtement et de semi-conducteurs de pointe. La cible est disponible sous forme de disques standard ou de configurations personnalisées pour répondre à des exigences opérationnelles spécifiques. Son point de fusion défini de 682℃ et sa densité de 4,64 g/cm³ favorisent un traitement fiable et des performances constantes dans une large gamme de températures.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de césium (CsF)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les systèmes de pulvérisation pour les applications de revêtement de semi-conducteurs, optiques et électroniques.
- Technologies d'affichage : Utilisées dans la fabrication de panneaux d'affichage avancés et de dispositifs photovoltaïques.
- Recherche et développement : Fournit un matériau fiable pour les études expérimentales sur les couches minces et l'optimisation des processus dans les laboratoires universitaires et industriels.
- Fabrication de dispositifs sur mesure : Adaptable aux exigences uniques de divers processus de fabrication de haute précision.

Emballage de cibles de pulvérisation de fluorure de césium (CsF)

Nos cibles de pulvérisation au fluorure de césium (CsF) sont méticuleusement emballées pour préserver l'intégrité du matériau pendant le stockage et le transport. Les produits sont scellés sous vide et emballés de manière sûre, ce qui garantit que chaque unité arrive dans un état impeccable et prête à être utilisée immédiatement dans les applications de fabrication et de recherche.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau solide utilisé comme source pour le dépôt de couches minces dans les systèmes de pulvérisation, où les atomes sont éjectés du matériau cible pour former une couche mince sur un substrat.

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation du fluorure de césium (CsF) comme cible de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation du CsF offrent une grande pureté et une composition uniforme, ce qui permet de déposer des couches minces de manière cohérente et d'obtenir d'excellentes performances dans des applications électroniques et optiques spécialisées.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation CsF est-elle assurée ?
R : La pureté (≥99%) est obtenue grâce à des processus avancés de raffinage et de contrôle de la qualité, ce qui garantit que le matériau répond aux normes rigoureuses de l'industrie pour les applications de pulvérisation à haute performance.

Q : Les formes des cibles peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, bien que des formes de disques standard soient disponibles, la cible de pulvérisation CsF peut être personnalisée pour répondre à des exigences spécifiques en matière de dimensions et de conception.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation cathodique CsF sont-elles couramment utilisées ?
R : Les cibles de pulvérisation CsF sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces pour les revêtements optiques, la technologie d'affichage et diverses applications de recherche nécessitant un dépôt précis de matériaux.