ST0237 Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)

Description de la cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)

La cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) est conçue pour une efficacité et une fiabilité élevées dans les applications de revêtement de couches minces. Fabriquée avec un contrôle de qualité strict et en utilisant des techniques de fabrication avancées, cette cible garantit des performances constantes dans les processus de pulvérisation RF. Sa grande pureté et sa composition spécialisée la rendent idéale pour le dépôt de films dans les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres applications de pointe.

Conçue pour la précision, la cible offre une excellente stabilité thermique et des caractéristiques de collage supérieures, contribuant à une longue durée de vie, même dans des conditions industrielles exigeantes. Cela en fait un choix de premier ordre pour les chercheurs et les fabricants qui ont besoin d'un contrôle précis de l'uniformité et de l'épaisseur du film.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)

- Semi-conducteurs et électronique : Idéal pour le dépôt de couches minces dans les circuits intégrés, les écrans et les cellules solaires.
- Revêtements optiques : Garantit une uniformité et une qualité élevées dans les applications optiques de précision.
- Dispositifs énergétiques : Convient aux composants des cellules photovoltaïques, des batteries et d'autres systèmes énergétiques.
- Recherche et développement : Parfait pour les recherches expérimentales en science des matériaux et en nanotechnologie.

Emballage de cibles de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)

Notre cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) est emballée de manière sécurisée afin de préserver l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont également disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation et d'expédition, garantissant une protection optimale et une facilité d'utilisation.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) ?
R : Elles sont principalement utilisées pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et la fabrication de dispositifs énergétiques.

Q : Quels sont les avantages de la pulvérisation RF pour l'utilisation de cette cible ?
R : La pulvérisation RF est idéale pour le traitement des matériaux isolants et permet un contrôle supérieur de l'uniformité du film et des taux de dépôt.

Q : Puis-je demander une forme personnalisée pour la cible de pulvérisation ?
R : Oui, la cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de conception spécifiques.

Q : Qu'est-ce qui garantit la haute performance de cette cible de pulvérisation ?
R : La combinaison d'une grande pureté (≥99%), de processus de fabrication précis et de techniques de collage avancées garantit d'excellentes performances et une grande durabilité.

Q : Comment cette cible de pulvérisation est-elle emballée pour l'expédition ?
R : La cible est soigneusement emballée avec des solutions personnalisées disponibles pour assurer la protection pendant le stockage et le transport, en préservant son intégrité et ses performances.