ST0230 Cible de pulvérisation en carbure de tungstène (WC)

Description de la cible de pulvérisation en carbure de tungstène (WC)

La cible de pulvérisation en carbure de tungstène (WC) est un matériau de haute performance conçu pour les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée avec une composition de haute pureté (≥99%), elle garantit d'excellentes performances dans des conditions de pulvérisation RF. Sa stabilité thermique et sa résistance à l'usure exceptionnelles en font un choix idéal pour les applications critiques dans le domaine des semi-conducteurs, des revêtements de surface et de la microélectronique. La capacité de la cible à déposer un film uniforme améliore l'efficacité et la longévité du processus de pulvérisation, même dans les environnements les plus difficiles.

Applications des cibles de pulvérisation en carbure de tungstène (WC)

- Dépôt par pulvérisation : Fournit des films minces uniformes pour les circuits intégrés et l'électronique avancée.
- Revêtements de surface : Améliorent la résistance à l'usure et la stabilité thermique de l'outillage industriel et des machines.
- Microélectronique : Essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs MEMS aux performances supérieures.
- Recherche et développement : Idéal pour les processus de dépôt expérimentaux et l'innovation en matière de nouveaux matériaux.

Emballage de cibles de pulvérisation en carbure de tungstène (WC)

Nos cibles de pulvérisation en carbure de tungstène (WC) sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur qualité et leur intégrité. L'emballage sous vide est disponible dans des formats standard et des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande pour répondre aux exigences spécifiques de l'application et de l'expédition.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert le carbure de tungstène dans les cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation en carbure de tungstène offrent une durabilité exceptionnelle, une stabilité thermique élevée et une résistance à l'usure, ce qui les rend idéales pour les processus de dépôt dans les industries des semi-conducteurs et des revêtements.

Q : Quel type de pulvérisation est utilisé avec cette cible ?
R : Cette cible est spécialement conçue pour la pulvérisation RF, ce qui garantit un dépôt de film efficace avec une épaisseur uniforme.

Q : Ces cibles peuvent-elles être personnalisées en termes de taille et de forme ?
R : Oui, les cibles de pulvérisation en carbure de tungstène (WC) sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelle est l'importance de la haute pureté (≥99%) de cette cible ?
R : La pureté élevée garantit une contamination minimale, ce qui permet d'obtenir des performances constantes et un dépôt de film de haute qualité dans les applications avancées.

Q : Existe-t-il des instructions spécifiques pour le stockage et la manipulation de ces cibles ?
R : Il est recommandé de stocker la cible de pulvérisation dans un environnement contrôlé et de la manipuler avec soin afin de préserver son intégrité structurelle et ses performances au fil du temps.