ST0219 Cible de pulvérisation de nitrure de zinc (Zn3N2)

Cible de pulvérisation au nitrure de zinc (Zn3N2) Description

La cible de pulvérisation au nitrure de zinc (Zn₃N₂) est conçue pour offrir des performances constantes et fiables dans les processus de dépôt par pulvérisation. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible assure une formation stable de couches minces et un modelage précis pour les applications industrielles avancées. Avec des formes personnalisables disponibles, elle convient aux équipements de pulvérisation spécialisés et aux applications de recherche.

Applications des cibles de pulvérisation au nitrure de zinc (Zn3N2)

- Dispositifs semi-conducteurs : Intégrale pour les processus de dépôt en microélectronique et les circuits intégrés.
- Dispositifs optoélectroniques : Utilisés dans la fabrication de DEL, de photodétecteurs et de composants connexes.
- Revêtements de surface : Appliqués dans les technologies de revêtement en couches minces pour améliorer la résistance à l'usure et les performances.
- Recherche avancée : Idéal pour les installations expérimentales de pulvérisation et les études en science des matériaux.

Emballage de cibles de pulvérisation au nitrure de zinc (Zn3N2)

Nos cibles de pulvérisation au nitrure de zinc sont emballées de manière sécurisée afin de préserver l'intégrité du produit pendant l'expédition et le stockage. Les options d'emballage comprennent des méthodes de scellage sous vide avec des poids et des configurations personnalisables pour répondre aux exigences spécifiques de l'industrie.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications courantes des cibles de pulvérisation de nitrure de zinc ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, de composants optoélectroniques, dans les processus de revêtement de surface et dans les applications de recherche avancée.

Q : Comment un niveau de pureté de ≥99% affecte-t-il les performances ?
R : La pureté élevée garantit une contamination minimale lors de la pulvérisation, ce qui permet d'obtenir une qualité de film supérieure, une cohérence accrue et des propriétés électriques améliorées.

Q : Les cibles de pulvérisation peuvent-elles avoir des formes personnalisées ?
R : Oui, nos cibles peuvent être fabriquées sous forme de disques ou de formes personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des équipements et des applications.

Q : Quelle est la stabilité du Zn₃N₂ dans des conditions de pulvérisation à haute température ?
R : Avec un point de fusion de ~700℃ et une stabilité chimique robuste, le Zn₃N₂ démontre d'excellentes performances dans les conditions de haute température typiques des processus de pulvérisation.

Q : Quelles sont les manipulations ou les conditions de stockage particulières requises pour ces cibles ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement propre et sec et de les manipuler avec soin afin de préserver leur grande pureté et leur intégrité structurelle pendant l'installation et le fonctionnement.