ST0214 Cible de pulvérisation de nitrure de niobium (NbN)

Cible de pulvérisation de nitrure de niobium (NbN) Description

La cible de pulvérisation de nitrure de niobium (NbN) est spécialement conçue pour les applications industrielles avancées nécessitant un dépôt précis de couches minces. Fabriquée avec une pureté élevée de ≥99%, cette cible est conçue pour offrir d'excellentes performances dans les processus de pulvérisation RF. Ses formes personnalisables, y compris les disques standard et les configurations sur mesure, permettent des applications polyvalentes à travers diverses technologies. Avec un point de fusion élevé de 2573℃ et une densité de 8,47 g/cm³, ce produit garantit des performances stables même dans des conditions extrêmes.

Applications des cibles de pulvérisation de nitrure de niobium (NbN)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la microélectronique, le photovoltaïque et les revêtements optiques.
- Photonique : Utilisé pour fabriquer des composants de lasers et d'autres dispositifs photoniques.
- Dispositifs à semi-conducteurs : Permet la production de composants semi-conducteurs de haute précision.
- Films supraconducteurs : Utilisés dans le domaine émergent de l'électronique supraconductrice.
- Recherche et développement : Convient aux études sur les matériaux avancés et aux applications expérimentales.

Cibles de pulvérisation de nitrure de niobium (NbN)

Nos cibles de pulvérisation NbN sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport.
- L'emballage sous vide garantit la protection contre les contaminants.
- Les disques sont placés en toute sécurité dans des conteneurs personnalisés afin d'éviter tout dommage pendant la manipulation.
- Les dimensions de l'emballage peuvent être adaptées en fonction des besoins spécifiques du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de la cible de pulvérisation NbN pour le dépôt de couches minces ?
R : Elle offre une pureté et une stabilité élevées, garantissant des couches minces uniformes, essentielles pour les applications électroniques et photoniques.

Q : Quelles sont les techniques de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible NbN est optimisée pour les procédés de pulvérisation RF et RF-R, ce qui permet d'obtenir des performances supérieures dans divers systèmes de dépôt.

Q : Comment peut-on demander des dimensions personnalisées pour la cible de pulvérisation ?
R : Les clients peuvent spécifier les dimensions et les formes qu'ils souhaitent au cours du processus de commande afin de répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation des cibles de pulvérisation NbN ?
R : Les industries telles que la microélectronique, la photonique, la fabrication de semi-conducteurs et les laboratoires de recherche bénéficient considérablement de ses propriétés avancées.

Q : Comment la qualité est-elle maintenue pendant le processus d'emballage et d'expédition ?
R : Nos produits sont scellés sous vide et emballés en toute sécurité dans des conteneurs personnalisés afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique pendant le transport.