ST0213 Cible de pulvérisation de nitrure de hafnium (HfN)

Description de la cible de pulvérisation au nitrure d'hafnium (HfN)

La cible de pulvérisation de nitrure de hafnium (HfN) est fabriquée pour répondre aux exigences rigoureuses des applications de pulvérisation modernes. Produite avec une pureté de ≥99%, cette cible est idéale pour les systèmes de pulvérisation RF et RF-R, assurant un dépôt fiable de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les applications microélectroniques. Conçue pour présenter un point de fusion élevé de 3310℃ et une densité de 13,2 g/cm³, elle est conçue pour résister à des conditions de fonctionnement extrêmes tout en offrant des performances précises et constantes.

Applications des cibles de pulvérisation de nitrure d'hafnium (HfN)

- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour produire des couches minces de haute qualité dans les circuits intégrés et les dispositifs microélectroniques.
- Revêtements optiques : Fournit des revêtements uniformes pour les lentilles, les miroirs et autres composants optiques.
- Dispositifs microélectroniques : Garantit d'excellentes performances dans le dépôt de couches conductrices et de couches barrières.
- Revêtements industriels : Largement utilisés dans la production de revêtements de surface résistants à l'usure et à la corrosion.

Emballage de cibles de pulvérisation de nitrure de hafnium (HfN)

Nos cibles de pulvérisation au nitrure de hafnium (HfN) sont soigneusement emballées dans des conditions contrôlées afin de préserver leur grande pureté et l'intégrité du matériau. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de nos clients, garantissant un transport et un stockage sûrs.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce que la pulvérisation dans le contexte du dépôt de couches minces ?
R : La pulvérisation est un procédé physique de dépôt en phase vapeur dans lequel des atomes sont éjectés d'un matériau cible par bombardement ionique énergétique, puis déposés sur un substrat pour former un film mince.

Q : Pourquoi la pureté de la cible de pulvérisation est-elle importante ?
R : Une pureté élevée garantit que le film déposé contient un minimum d'impuretés, ce qui permet d'améliorer les propriétés électriques, optiques et mécaniques essentielles pour les applications avancées.

Q : Quels sont les avantages de la pulvérisation RF et RF-R ?
R : La pulvérisation RF et RF-R offre un contrôle précis de l'uniformité du film et des taux de dépôt, ce qui en fait la méthode idéale pour créer des films minces cohérents et de haute qualité dans la fabrication de dispositifs complexes.

Q : Quels sont les avantages des tailles personnalisées pour les applications de pulvérisation ?
R : L'offre de tailles personnalisées permet d'adapter la cible de pulvérisation aux dimensions spécifiques de l'équipement et aux exigences du processus, ce qui optimise les performances et réduit le gaspillage de matériaux.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation au nitrure de hafnium ?
R : Les industries telles que les semi-conducteurs, l'optique, la microélectronique et les revêtements industriels utilisent des cibles de pulvérisation de nitrure d'hafnium pour leur stabilité thermique supérieure, leur point de fusion élevé et leurs excellentes propriétés matérielles.